[實用新型]用于全身照射的蠟質均整器無效
| 申請號: | 200720028728.0 | 申請日: | 2007-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN201088783Y | 公開(公告)日: | 2008-07-23 |
| 發明(設計)人: | 顏廷秀;楊哲 | 申請(專利權)人: | 顏廷秀 |
| 主分類號: | A61N5/00 | 分類號: | A61N5/00;G21K1/00 |
| 代理公司: | 山東濟南齊魯科技專利事務所有限公司 | 代理人: | 張德平 |
| 地址: | 250021山東省濟南*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 全身 照射 蠟質 均整器 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種醫用加速器的配套裝置,特別是涉及一種用于全身照射的臘質均整器。
背景技術
目前,加速器技術已廣泛應用于醫學領域,國內很多醫療單位已開始利用加速器對患者實施全身照射治療,但是,用加速器進行全身照射時存在以下問題:加速器常規治療都是在源波距100cm或源瘤距100cm的情況下完成,所形成的照射野為40×40cm,在此照射野范圍內,照射野的平坦度經過加速器內置金屬均整器調整,使照射野的誤差被控制在國家標準規定的3%之內,具有良好的治療效果;而用現有的加速器進行全身照射時,要求照射野范圍最小是160×160cm大小的方野,為滿足此條件,需將源波距擴大至400cm以上,隨著源波距的放大,大照射野平坦度的誤差也相應放大了4倍左右,達到11-17%,此誤差遠遠超出國家標準,因此需要對大照射野的均整性進行二次調整,為解決上述問題,各單位采取了多種措施對大照射野進行修正,確保大照射野的均整性修正誤差在3%之內,但效果都不理想,其中有的醫院用鉛及鉛合金對大照射野均整性進行修正,但其加工較為困難、工藝較復雜且成本較高。
發明內容
本實用新型的目的,是提供了一種用于全身照射的臘質均整器,它可修正加速器大照射野存在的中心照射強度低周邊強度高的誤差,能將進行全身照射的誤差修正至國家標準規定的3%以內,且操作方便、制造簡單、成本低廉,可解決現有加速器進行全身照射時存在的問題。
本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的:用于全身照射的臘質均整器,包括臘塊,臘塊是矩形,臘塊的厚度小于臘塊的寬度,臘塊的上端面的中間部低于其上端面的四周邊緣部,臘塊的上端面的四周邊緣部至中間部是平滑過渡,臘塊的下端面上設置定位柱。
為進一步實現本實用新型的目的,還可以采用以下技術方案實現:臘塊的上端面由第一斜面、第二斜面、第三斜面和第四斜面連接構成。臘塊上端面中間部平面與四周邊緣部的高差h是3-5cm。臘塊的上端面中間部平面邊緣與四周邊緣部的水平間距H是4-6cm。臘塊的下端安裝托盤,托盤上開設定位孔,定位孔與定位柱配合,定位柱位于定位孔內。臘塊是正方形,其邊長L是25cm。
本實用新型的積極效果在于:它是由臘制成的大照射野修正裝置,可根據不同加速器的具體情況進行精確的修正,可確保將大照野平坦度誤差控制在國家標準規定的3%之內,且具有加工工藝簡單、制作成本低廉和使用簡單方便的優點。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖;圖2是圖1的俯視結構示意圖。
具體實施方式
本實用新型所述的用于全身照射的臘質均整器包括臘塊1,為吻合加速器照射野的形狀可將臘塊1制成矩形,以取得較好的均整效果。制作時,可使臘塊1的厚度小于臘塊1的寬度,既可節省材料降低成本,又可防止臘塊1對射線的過度衰減,影響照射效果。如圖1和圖2所示,為提高照射野的平坦度,使照射野的最大誤差小于3%,可將臘塊1制成,其上端面的中部平面低于其上端面的四周邊緣部形狀,即將臘塊1制成中間薄四周厚的形狀。由于大照射野的照射強度分布,是由四周向中間逐漸變弱,因此,將臘塊1上端面的四周邊緣部至中間部制成平滑過渡,即臘塊1的厚度是由四周向中間逐漸變薄。如圖1和圖2所示,臘塊1安裝于加速器的托盤4上,使用時托盤4即為臘塊1的載體,為防止臘塊1相對托盤4滑動影響修正效果,臘塊1的下端面上可設置定位柱2,托盤4上可相應定位柱2開設定位孔3,定位柱2位于定位孔3內,定位孔3與定位柱2配合防止臘塊1與托盤4相對滑動。定位孔3可以是通孔。
如圖2所示,臘塊1的上端面可由第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8連接構成,第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8構成漏斗狀。如圖2所示,第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8可以均是平面,每相鄰兩個平面間可有明顯的折痕。第一斜面5、第二斜面6、第三斜面7和第四斜面8也可以是曲面,即相鄰兩曲面間無明顯折痕,曲面間是平滑過渡。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于顏廷秀,未經顏廷秀許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200720028728.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:滑動軸承的空氣密封裝置
- 下一篇:用于安瓿瓶的旋瓶裝置





