[實用新型]PVC仿抽紗制品專用版輥無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200720018897.6 | 申請日： | 2007-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN201021972Y | 公開（公告）日： | 2008-02-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 曹利萍 | 申請（專利權(quán)）人： | 山東欣特瑞塑膠有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/08 | 分類號： | G03F1/08;G03F7/09;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 淄博科信專利商標代理有限公司 | 代理人： | 孫愛華 |
| 地址： | 255300山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | pvc 抽紗 制品 專用版 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.PVC仿抽紗制品專用版輥，包括輥筒，其特征在于：輥筒(1)為筒狀，表面設(shè)有花紋層、花紋層外鍍有鍍鉻層(2)，輥筒(1)兩端安裝有堵頭(5)，一端的堵頭(5)帶有鏈輪(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PVC仿抽紗制品專用版輥，其特征在于：堵頭(5)、內(nèi)圈(7)上設(shè)有螺孔(4)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的PVC仿抽紗制品專用版輥，其特征在于：內(nèi)圈(7)與輥筒(1)密合處裝有密封硅膠條(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PVC仿抽紗制品專用版輥，其特征在于：鍍鉻層(2)厚度為0.07-0.08mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PVC仿抽紗制品專用版輥，其特征在于：輥筒(1)為銅板制作。
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
