[實(shí)用新型]廢氣處理裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200720000467.1 | 申請(qǐng)日: | 2007-07-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201091817Y | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃高英 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 黃高英 |
| 主分類號(hào): | B01D50/00 | 分類號(hào): | B01D50/00;B01D53/78;B01D53/04;B03C3/017 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 廢氣 處理 裝置 | ||
1.一種廢氣處理裝置,用于處理一廢氣,該廢氣具有多數(shù)個(gè)氣狀污染物與多數(shù)個(gè)粒狀污染物,其特征在于包括:
一氣體流道管(10),該氣體流道管(10)設(shè)有一入口(11)與一出口(12),該廢氣由該入口(11)進(jìn)入該氣體流道管(10),并由該出口(12)離開該氣體流道管(10);
一氣狀物吸收層(20),該氣狀物吸收層(20)設(shè)于該氣體流道管(10)內(nèi)且接近該入口(11),又該氣狀物吸收層(20)內(nèi)設(shè)有至少一噴灑裝置(21),該噴灑裝置(21)噴灑一霧化的用于吸收該多數(shù)個(gè)氣狀污染物的吸收溶液(22);
一除霧層(30),該除霧層(30)設(shè)于該氣體流道管(10)內(nèi)且位于該氣狀物吸收層(20)之后,又該除霧層(30)設(shè)有一用于過濾該廢氣中的水氣的多孔填充材(31);
一高壓放電層(40),該高壓放電層(40)設(shè)于該氣體流道管(10)內(nèi)且位于該除霧層(30)之后,又該高壓放電層(40)設(shè)一放電元件(41),該放電元件(41)可產(chǎn)生一高速移動(dòng)的電子群(411),該電子群(411)撞擊該多數(shù)個(gè)粒狀污染物,以使該多數(shù)個(gè)粒狀污染物帶電;
一靜電集塵層(50),該靜電集塵層(50)設(shè)于該氣體流道管(10)內(nèi)且接近該出口(12)并位于該高壓放電層(40)之后,該靜電集塵層(50)設(shè)有一極板(51),該極板(51)帶有與該多數(shù)個(gè)粒狀污染物相反的電荷,該極板(51)吸引該帶電的多數(shù)個(gè)粒狀污染物,以使該帶電的多數(shù)個(gè)粒狀污染物附著在該極板(51)之上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置,其特征在于其中所述的氣狀物吸收層(20)更設(shè)有一PH控制器(23),該P(yáng)H控制器(23)具一PH量測(cè)元件(231)與一開關(guān)控制器(232),該P(yáng)H量測(cè)元件(231)量測(cè)該霧化的吸收溶液(22),并借該開關(guān)控制器(232)控制該噴灑裝置(21)是否噴灑該吸收溶液(22)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置,其特征在于其中所述的靜電集塵層(50)設(shè)有一空氣噴射元件(52),該空氣噴射元件(52)噴出高壓氣體,將該極板(51)上的該多數(shù)個(gè)粒狀污染物收集至一收集槽(53)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置,其特征在于其中所述的靜電集塵層(50)設(shè)有一震蕩器(54),該震蕩器(54)用于震蕩該極板(51),將該極板(51)上的該多數(shù)個(gè)粒狀污染物收集至一收集槽(53)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置,其特征在于其中所述的氣狀物吸收層(20)設(shè)有一吸收槽道(24),該廢氣流經(jīng)該吸收槽道(24),且該霧化的吸收溶液(22)設(shè)于該吸收槽道(24)內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的廢氣處理裝置,其特征在于其中所述的吸收槽道(24)為來回彎曲狀。
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