[發明專利]用于離子遷移率譜儀的遷移管結構有效
| 申請號： | 200710308546.3 | 申請日： | 2007-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN101471222A | 公開（公告）日： | 2009-07-01 |
| 發明（設計）人： | 胡海峰;李元景;張清軍;陳志強 | 申請（專利權）人： | 同方威視技術股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J49/02 | 分類號： | H01J49/02;G01N27/64 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 100084北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 離子遷移率 遷移 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于離子遷移率譜儀的遷移管結構，包括間隔排列的電極片和絕緣部分，其中電極片是帶有弧度或錐度的網狀金屬片，且具有中心孔，靠近法拉第盤的電極片的中心孔比遠離法拉第盤的電極片的中心孔小。
2.如權利要求1所述的遷移管結構，其中電極片的弧度或錐度部分帶有網孔。
3.如權利要求1所述的遷移管結構，其中，電極片的中心孔是圓孔。
4.如權利要求1所述的遷移管結構，其中，電極片的外圍是單邊或兩邊都帶有金屬環的金屬結構。
5.如權利要求1所述的遷移管結構，其中絕緣部分構成為環狀。
6.如權利要求1所述的遷移管結構，其中所述電極片同軸排列，并且被加上遞增或遞減的電壓。
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