[發明專利]電濕裝置無效
| 申請號: | 200710308187.1 | 申請日: | 2007-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN101285933A | 公開(公告)日: | 2008-10-15 |
| 發明(設計)人: | 加藤義明;前田史貞 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G02B26/02 | 分類號: | G02B26/02;G02B3/14;G11B7/135;G02B7/04;G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 馬高平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 | ||
1、一種電濕裝置,包括:
導電或極性液體材料;和
通過介電層向所述液體材料施加電壓的電極,其中
所述介電層被形成為由通過陽極化處理該電極形成的金屬氧化物組成的陽極化部分,并且
向所述電極和所述液體材料之間施加電壓的供電元件和極性電容被置于所述電極和所述液體材料之間。
2、如權利要求1所述的電濕裝置,其中還包括:
所述介電層和所述液體材料之間的防水材料。
3、如權利要求1所述的電濕裝置,其中
所述電容是極性電容。
4、一種變焦距透鏡,包括:
一對透光材料;
導電或極性第一液體材料和絕緣第二液體材料,兩者都貯存于所述透光材料之間;
通過介電層向所述第一液體材料施加電壓的第一電極;和
向所述第一液體材料導電的第二電極,
其中
所述介電層被形成為由通過陽極化處理所述第一電極形成的金屬氧化物組成的陽極化部分,且向所述第一電極和所述第二電極之間施加電壓的供電元件和電容被置于所述第一電極和所述第二電極之間。
5、如權利要求4所述的變焦距透鏡,其中
一對透光材料中的至少一個具有曲面形狀。
6、如權利要求4所述的變焦距透鏡,其中
陣列透鏡包括多個所述變焦距透鏡。
7、如權利要求4所述的變焦距透鏡,其中
所述電容是極性電容。
8、一種光拾取裝置,包括:
光源;
光接收元件;
面對光記錄介質的物鏡;和
光學系統,其具有將從光源發出的光導向物鏡并通過聚焦透鏡將從物鏡發出的光線聚焦到光接收元件上的功能,其中
從光源發出的光照射光記錄介質的預定位置,
所述光學系統具有變焦距透鏡,
所述變焦距透鏡包括一對透光材料和貯存于所述透光材料之間的導電或極性第一液體材料和絕緣第二液體材料,并且還包括通過介電層向所述第一液體材料施加電壓的第一電極和向所述第一液體材料導電的第二電極,并且
所述介電層被形成為由通過陽極化處理所述第一電極形成的金屬氧化物組成的陽極化部分。
9、如權利要求8所述的光拾取裝置,其中還包括:
向所述第一電極和所述第二電極之間施加電壓的供電元件和電容,兩者被設置于所述第一電極和所述第二電極之間。
10、如權利要求9所述的光拾取裝置,其中
所述電容是極性電容。
11、一種光學記錄/再現裝置,包括:
光源;
光接收元件;
面對光記錄介質的物鏡;和
光學系統,其具有將從光源發出的光導向物鏡并通過聚焦透鏡將從物鏡發出的光線聚焦到所述光接收元件上的功能,其中
從所述光源發出的光照射光記錄介質的預定位置,
所述光學系統具有變焦距透鏡,
所述變焦距透鏡包括一對透光材料和貯存于所述透光材料之間的導電或極性第一液體材料和絕緣第二液體材料,并且還包括通過介電層向所述第一液體材料施加電壓的第一電極和向所述第一液體材料導電的第二電極,并且
所述介電層被形成為由通過陽極化處理所述第一電極形成的金屬氧化物組成的陽極化部分。
12、如權利要求11所述的光學記錄/再現裝置,還包括:
向所述第一電極和所述第二電極之間施加電壓的供電元件;和
電容,
所述供電元件和電容被設置于所述第一電極和所述第二電極之間。
13、一種液滴操作裝置,包括:
基底;和
電極陣列,形成于所述基底上并被介電層覆蓋,其中
導電或極性液滴附著于所述介電層上,
導向所述液滴的公共電極被設置為所述公共電極面對所述電極陣列,
所述液滴操作裝置包括電壓控制元件,用于控制施加到所述公共電極和所述電極陣列之間的電壓,以便在所述電極陣列的陣列方向上移動液滴,且
覆蓋所述電極陣列的介電層被形成為由通過陽極化處理所述電極陣列形成的金屬氧化物組成的陽極化部分。
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