[發(fā)明專利]用于物品恢復(fù)或再生的方法以及恢復(fù)或再生的物品

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710308145.8
• 申請日: 2007-12-29
• 公開（公告）號: CN101225519A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: M·P·馬利;W·T·小卡特;T·J·凱利;M·D·韋利茨
• 申請（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C23C30/00
• 分類號: C23C30/00;C23C28/02;F01D5/28
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 溫大鵬;楊松齡

1.一種方法，其特征在于：

a)提供包括第一材料的殘留襯底(20、60)；

b)沉積覆蓋殘留襯底至少一部分的第二材料層(30、64)，其中第二材料的組分大致類似于第一材料，其中該層通過選自氣相沉積、電離等離子體沉積、陰極電弧沉積、濺射及其組合的沉積過程來沉積，其中殘留襯底和第二材料層包括部件(36)的主體；以及

c)通過選自氣相沉積、陰極電弧沉積及其組合的沉積過程而將周圍涂層(38)沉積在主體上。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

d)利用熱處理，以便在其之間的界面(32)處增加殘留襯底和層之間的整體結(jié)合的形成，其中熱處理包括將殘留襯底和沉積層暴露于816℃-1260℃之間的溫度長達2-24小時。

3.如權(quán)利要求1和2所述的方法，其特征在于，還包括：

e)通過表面處理過程對被涂層主體的表面(52)處理，使得被處理主體的表面獲得至少一個所需表面性能。

4.如權(quán)利要求1、2和3任一項所述的方法，其特征在于，還包括：

f)在(b)之前，與預(yù)定最小壁厚相比，估計殘留襯底的壁厚，其中在(b)中沉積的一定量的第二材料至少部分取決于估計的壁厚，其中如果估計的壁厚小于預(yù)定最小壁厚，第二材料以足以提供至少最小壁厚的數(shù)量沉積。

5.如權(quán)利要求1、2、3和4任一項所述的方法，其特征在于，還包括：

g)在(c)之后，利用氣體渦輪發(fā)動機內(nèi)的被涂層部件。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，還包括：

h)在(g)之后，去除沉積的周圍涂層以及沉積層的至少一部分。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括：

i)在(h)之后，重復(fù)步驟(b)-(d).

8.一種物品，包括：

用于氣體渦輪發(fā)動機的部件(36)，包括：

殘留襯底(20、60)，包括第一材料，其中第一材料是鎳基合金和鎳基超合金中的至少一種；

覆蓋殘留材料的至少一部分的第二材料的層(30、64)，其中第二材料的組分大致類似于第一材料，其中殘留襯底和該層在其之間的界面(32)處大致整體結(jié)合；以及

至少部分擴散到層內(nèi)并形成擴散區(qū)域(40)的周圍涂層(38)，其中周圍涂層包括由選自氣相沉積、電離等離子體沉積、陰極電弧沉積、濺射及其組合的沉積過程來沉積。

9.如權(quán)利要求8所述的物品，其特征在于，還包括熱阻擋涂層，并且其中周圍涂層是用于熱阻擋涂層的適當(dāng)結(jié)合被覆層。

10.如權(quán)利要求8和9任一項所述的物品，其特征在于，還包括具有由于適當(dāng)表面處理造成的至少一個所需表面性能的表面(52)。