[發(fā)明專利]液晶顯示面板及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710306353.4
• 申請日: 2007-12-28
• 公開（公告）號: CN101290419A
• 公開（公告）日: 2008-10-22
• 發(fā)明（設計）人: 蔡基成;宋泰俊
• 申請（專利權）人: LG.菲力浦LCD株式會社
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;C09K19/52
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國;梁揮

本申請要求2007年4月19日提交的韓國專利申請No.10-2007-038436的權益，通過參考的方式援引該專利申請，如同在此完全闡明。

技術領域

本發(fā)明涉及一種液晶顯示面板，尤其涉及一種可簡化濾色片陣列的制造工序并縮短補償膜的粘接工序的液晶顯示面板及其制造方法。

背景技術

液晶顯示器件(LCD)根據視頻信號控制液晶單元的透光率，從而使以矩陣形式設置的液晶單元在液晶顯示面板上顯示對應于視頻信號的圖像。為了實現該操作，液晶顯示器件(LCD)包括其中液晶單元以有源矩陣形式設置的液晶顯示面板、和驅動LCD面板的驅動電路。

參照圖1，液晶顯示面板包括形成有濾色片陣列的上基板2、形成有薄膜晶體管陣列22的下基板22、夾在上基板2與下基板22之間的盒間隙中的液晶11、粘接到光入射面的下偏振膜21、粘接到光發(fā)射面的上偏振膜1、和夾在下基板2與上偏振膜1之間的補償膜3。補償膜3還可設置在下偏振膜21與下基板22之間。

濾色片陣列包括設置在上基板2上的黑矩陣4、濾色片6、平坦化層7和上定向層8。

薄膜晶體管陣列包括設置在下基板22上的薄膜晶體管(之后簡單稱作“TFT”)、公共電極13、像素電極18和下定向層28。

上基板2和下基板22彼此連接，從而濾色片陣列面對薄膜晶體管陣列。襯墊料10用于保持兩個基板之間的盒間隙。

在濾色片陣列中，黑矩陣4與對應于薄膜晶體管陣列的TFT的區(qū)域以及對應于柵極線和數據線(沒有示出)的區(qū)域重疊，并劃分子像素。濾色片6形成在由黑矩陣4劃分的每個子像素處。子像素包括R，G和B子像素的重復濾光片圖案，并還包括提高亮度的W子像素。濾色片6包括分別實現紅色、綠色和藍色的R，G和B濾色片。當子像素還包括W子像素時，濾色片6還包括在W子像素處的W濾色片圖案。形成平坦化層7用來覆蓋濾色片并使上基板2變平坦。

在薄膜晶體管陣列中，TFT包括與柵極線(沒有示出)連接的柵極2、柵極絕緣膜24、與柵極12重疊的半導體圖案14、與半導體圖案14歐姆接觸并和與柵極線交叉的數據線(沒有示出)連接的源極40、以及與源極40間隔開并設置成與半導體圖案14歐姆接觸的漏極17。TFT響應于柵極線的掃描信號，通過數據線向像素電極18供給像素信號。像素電極18通過保護膜26中的接觸孔與TFT的漏極17接觸。公共電極13形成為與像素電極18交替設置的條狀。公共電極13施加作為液晶驅動的基礎電壓的公共電壓。

上定向膜8和下定向膜28使液晶11均勻定向。

液晶11根據由從公共電極13施加的公共電壓和從像素電極18供給的像素電壓產生的電場而旋轉，從而控制透光率。

上偏振膜1和下偏振膜21使非偏振入射光線性偏振。

入射到LCD面板的光通過下偏振膜21線性偏振，并透射到具有折射率各向異性的液晶11。同時，光垂直或傾斜地透射到液晶11。所以在各個方向上透過上偏振膜的光由于液晶11而具有不同的延遲值，因而導致相位差。由透射方向導致的相位差根據視角而改變透射光的特性。補償膜3補償光學相位差，因而改善LCD面板的視角特性。

圖2A到圖2D是順序圖解制造圖1中所示濾色片陣列的方法的截面圖。

在上基板2的整個表面上涂敷不透明樹脂，然后通過使用第一掩模的光刻和蝕刻工序將其構圖，從而形成黑矩陣4，如圖2A中所示。

在包含黑矩陣4的上基板2上沉積紅色樹脂，然后通過使用第二掩模的光刻和蝕刻工序將其構圖，從而形成紅色濾光片圖案R，如圖2B中所示。以相同的方式，分別使用第三、第四和第五掩模順序形成綠色、藍色和白色濾光片圖案G，B和W。使用綠色、藍色和透明樹脂分別形成綠色、藍色和白色濾光片圖案G，B和W。盡管沒有形成白色濾光片圖案W，但可提高亮度。如果沒有任何白色濾光片圖案W，則平坦化層7就不能補償W子像素之間的差階。因此，就上基板1的有效平坦化而言，優(yōu)選在形成濾色片6的地方形成白色濾色片圖案W。

在包含濾色片6的上基板2的整個表面上沉積有機材料，從而形成平坦化層7，如圖2C中所示。平坦化層7消除了由不透明樹脂組成的黑矩陣2導致的子像素的拓撲。

在平坦化層7的整個表面上涂敷襯墊料材料，然后通過使用第六掩模的光刻和蝕刻工序將其構圖，從而形成襯墊料10，如圖2D中所示。

這樣，制造濾色片陣列使用了至少六個掩模工序。每個掩模工序都包括光刻工序，其是包括涉及涂敷、曝光和顯影光刻膠一系列步驟的光刻工序。光刻工序需要較長的工序時間和較高的設備成本。