[發明專利]投影光學系統、曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請號: 200710306119.1
• 申請日: 2004-05-06
• 公開（公告）號: CN101216600A
• 公開（公告）日: 2008-07-09
• 發明（設計）人: 大村泰弘
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G02B17/08
• 分類號: G02B17/08;G03F7/20
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種投影光學系統，為一種將第1面的縮小像形成在第2面上的反射折射型的投影光學系統，其特征在于：

前述投影光學系統包括至少2片反射鏡、第1面側的面具有正的折射力的邊界透鏡；

當使前述投影光學系統的光路中的環境的折射率為1時，前述邊界透鏡和前述第2面間的光路由具有較1.1大的折射率的媒質充滿；

構成前述投影光學系統的所有的透射構件及具有折射力的所有的反射構件沿單一的光軸進行配置；

前述投影光學系統具有不含有前述光軸的設定形狀的有效成像區域，

并且前述有效成像區域具有圓弧形狀，當使規定前述有效成像區域的圓弧的曲率半徑的大小為R，前述第2面上的最大像高為Y0時，滿足：

1.05＜R/Y0＜12的條件。

2.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：前述至少2片反射鏡具有至少1個凹面反射鏡。

3.根據權利要求2所述的投影光學系統，其特征在于：前述投影光學系統具有偶數個反射鏡。

4.根據權利要求3所述的投影光學系統，其特征在于：前述偶數個反射鏡是由僅兩個鏡所構成。

5.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：前述投影光學系統的射出瞳不具有遮蔽區域。

6.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：前述投影光學系統具有的所有的有效成像區域存在于從前述光軸離開的區域中。

7.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于：前述投影光學系統包括具有至少2個反射鏡并用于形成前述第1面的中間像的第1成像光學系統、用于根據來自前述中間像的光束而在前述第2面上形成最終像的第2成像光學系統。

8.根據權利要求7所述的投影光學系統，其特征在于：前述第1成像光學系統包括具有正的折射力的第1透鏡群、在該第1透鏡群和前述中間像的光路中配置的第1反射鏡以及在該第1反射鏡和前述中間像的光路中配置的第2反射鏡。

9.根據權利要求8所述的投影光學系統，其特征在于：

前述第1反射鏡為配置于前述第1成像光學系統的瞳面附近的凹面反射鏡；

在前述凹面反射鏡所形成的往返光路中至少配置有1個負透鏡。

10.根據權利要求9所述的投影光學系統，其特征在于：在前述往返光路中所配置的前述至少1個負透鏡及前述邊界透鏡由螢石形成。

11.根據權利要求8所述的投影光學系統，其特征在于：

在使前述第1透鏡群的焦點距離為F1，前述第2面上的最大像高為Y0時，滿足

5＜F1/Y0＜15的條件。

12.根據權利要求9所述的投影光學系統，其特征在于：前述第1透鏡群具有至少2個正透鏡。

13.根據權利要求12所述的投影光學系統，其特征在于：前述第2成像光學系統為只由復數個透射構件構成的折射光學系統。

14.根據權利要求12所述的投影光學系統，其特征在于：構成前述第2成像光學系統的透射構件的數目的70％以上的數目的透射構件由石英形成。

15.根據權利要求1所述的投影光學系統，其特征在于還包括配置在前述邊界透鏡與前述第2面之間的光路中，大致上無折射力的光透射性光學構件。

16.一種投影光學系統，為一種將第1面的縮小像形成在第2面上的反射折射型的投影光學系統，其特征在于：

具有至少2片的反射鏡和透射構件，且具有不包含前述投影光學系統的光軸的圓弧形狀的有效成像區域，

當使規定前述有效成像區域的圓弧的曲率半徑的大小為R，前述第2面上的最大像高為Y0時，滿足

1.05＜R/Y0＜12的條件。

17.根據權利要求16所述的投影光學系統，其特征在于：具有在前述邊界透鏡和前述第2面間的光路中所配置的，大致無折射力的光透射性光學構件。