[發(fā)明專利]光電陰極、光電倍增管和電子管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710305894.5 | 申請日: | 2007-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN101211730A | 公開(公告)日: | 2008-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 渡瀬文雄;山下真一;渡邊宏之 | 申請(專利權(quán))人: | 浜松光子學(xué)株式會社 |
| 主分類號: | H01J1/34 | 分類號: | H01J1/34;H01J40/06;H01J40/16;H01J40/04;H01J43/06;H01J43/28 |
| 代理公司: | 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光電 陰極 光電倍增管 電子管 | ||
1.一種光電陰極,具有使得具有預(yù)定波長的光入射的光入射面和響應(yīng)于光入射而發(fā)射光電子的光電子發(fā)射面,其特征在于,包括:
支撐基板,具有第一主面和與所述第一主面相對的第二主面;
光電子發(fā)射層,具有第一主面和與所述第一主面相對的第二主面,并含有堿金屬,所述光電子發(fā)射層設(shè)置在所述支撐基板的第二主面上,使得所述光電子發(fā)射層的第一主面面向所述支撐基板的第二主面;和
底層,設(shè)置在所述支撐基板和所述光電子發(fā)射層之間,同時與所述支撐基板的第二主面和所述光電子發(fā)射層的第一主面均直接接觸,所述底層含有鈹元素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層的厚度設(shè)置成使得所述光電子發(fā)射層的厚度和所述底層的厚度的比例落入大于或等于0.1且小于或等于100的范圍內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層包括氧化鈹和氧化鎂的混合結(jié)晶。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層包括氧化鈹和氧化錳的混合結(jié)晶。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層包括氧化鈹和氧化釔的混合結(jié)晶。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層包括氧化鈹和氧化鉿的混合結(jié)晶。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述底層包括含有氧化鈹?shù)膶雍驮O(shè)置在所述含有氧化鈹?shù)膶雍退鲋位逯g的氧化鉿膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述光電子發(fā)射層由銻和堿金屬的化合物構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述堿金屬含有銫、鉀和鈉中的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述支撐基板由傳送入射到其中的具有預(yù)定波長的光的材料構(gòu)成,
其中所述光電陰極包括透射型光電陰極,其中所述支撐基板的第一主面用作光入射面,而所述光電子發(fā)射層的第二主面用作光電子發(fā)射面。
11.一種電子管,其特征在于,包括:
根據(jù)權(quán)利要求10所述的光電陰極;
陽極,收集從所述光電陰極發(fā)射的電子;和
容器,收納所述光電陰極和所述陽極。
12.一種光電倍增管,其特征在于,包括:
根據(jù)權(quán)利要求10所述的光電陰極;
電子倍增部,具有用于對從所述光電陰極發(fā)射的光電子進(jìn)行級聯(lián)倍增的多級倍增電極;
陽極,收集從所述電子倍增部發(fā)射的二次電子;以及
容器,收納所述光電陰極、所述電子倍增部和所述陽極。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電陰極,其特征在于,所述支撐基板由阻礙入射到其中的具有預(yù)定波長的光的材料構(gòu)成,
其中所述光電陰極包括反射型光電陰極,其中所述光電子發(fā)射層的第二主面不僅用作光入射面,還用作光電子發(fā)射面。
14.一種電子管,其特征在于,包括:
根據(jù)權(quán)利要求13所述的光電陰極;
陽極,收集從所述光電陰極發(fā)射的電子;和
容器,收納所述光電陰極和所述陽極。
15.一種光電倍增管,其特征在于,包括:
根據(jù)權(quán)利要求13所述的光電陰極;
電子倍增部,具有用于對從所述光電陰極發(fā)射的光電子進(jìn)行級聯(lián)倍增的多級倍增電極;
陽極,收集從所述電子倍增部發(fā)射的二次電子;和
容器,收納所述光電陰極、所述電子倍增部和所述陽極。
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