[發(fā)明專利]一種平面連續(xù)衍射聚光透鏡的制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710304630.8
• 申請日: 2007-12-28
• 公開（公告）號: CN101470224A
• 公開（公告）日: 2009-07-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅崇泰;王多書;劉宏開;葉自煜;熊玉卿;陳燾;馬勉軍
• 申請（專利權(quán)）人: 中國航天科技集團公司第五研究院第五一〇研究所
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G02B27/42;G03F7/00
• 代理公司: 北京理工大學專利中心
• 代理人: 張利萍

1.一種平面連續(xù)型衍射聚光透鏡的制備方法，具體包括平面連續(xù)衍射聚光透鏡掩模制作和圖形轉(zhuǎn)移兩個步驟；其特征在于：

步驟1：采用重鉻酸鉀與濃硫酸的混合溶液對基片進行浸泡清洗3～5小時，取出并經(jīng)烘干處理后，利用旋轉(zhuǎn)涂膠機進行涂膠，涂膠機轉(zhuǎn)速2000轉(zhuǎn)/分鐘～7000轉(zhuǎn)/分鐘，膠層厚度在1μm～2.5μm；

將涂有光刻膠層的基片置于真空烘箱中進行預烘烤，預烘烤溫度在90℃～100℃范圍，烘烤時間在30min～60min之間，而后得到光刻膠版；

依據(jù)透鏡設(shè)計微結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，利用激光曝光能量與微結(jié)構(gòu)半徑和微結(jié)構(gòu)深度的關(guān)系，形成激光曝光所需的能量文件；

在激光直寫設(shè)備上進行激光刻寫曝光；將刻寫曝光后的光刻膠版置于顯影液中顯影，顯影時間10s～60s，顯影后，光刻膠版表面光刻膠層形成與透鏡設(shè)計微結(jié)構(gòu)相似的連續(xù)微結(jié)構(gòu)；

然后將顯影后的光刻膠版置于真空干燥箱中堅模烘烤，溫度：100℃～140℃，烘烤時間20min～40min；

堅模后可形成平面連續(xù)衍射聚光透鏡掩模；

步驟2：將制作好的平面連續(xù)衍射聚光透鏡掩模置于反應離子束刻蝕設(shè)備中刻蝕實現(xiàn)連續(xù)衍射微結(jié)構(gòu)圖形轉(zhuǎn)移；

選用六氟化硫SF₆為刻蝕氣體，流量為30～45sccm，射頻功率10～80W，反應腔腔壓2.8～3.5Pa；

在上述工藝參數(shù)條件下進行反應刻蝕，刻蝕后可將光刻版膠層的連續(xù)微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基片表面，形成平面連續(xù)衍射聚光透鏡。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種平面連續(xù)型衍射聚光透鏡的制備方法，其特征在于：基片材料選用石英玻璃。