[發明專利]一種正壓漏孔漏率的測量方法無效
| 申請號: | 200710304625.7 | 申請日: | 2007-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN101470044A | 公開(公告)日: | 2009-07-01 |
| 發明(設計)人: | 馮焱;張滌新;邱家穩;李得天;成永軍;盧耀文;李正海 | 申請(專利權)人: | 中國航天科技集團公司第五研究院第五一〇研究所 |
| 主分類號: | G01M3/32 | 分類號: | G01M3/32 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 | 代理人: | 張利萍 |
| 地址: | 730000甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 正壓 漏孔 測量方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種正壓漏率漏率的測量方法,屬于精度測量領域。
背景技術
文獻“正壓漏孔校準裝置的設計,《中國空間科學技術》第21卷、2001年第1期、第57頁~64頁”,介紹了測量正壓漏孔漏率的一種方法,稱為定容法。該方法是在已知容積U的定容室內充入一個大氣壓的空氣,把示漏氣體通過正壓漏孔引入到定容室中,引起定容室中的壓力變化并采用電容薄膜真空計來測量,通過測量定容室中的壓力變化值Δp和所用時間Δt,并考慮到溫度的修正,正壓漏孔的漏率Q可用計算。該方法的測量下限是5×10-6Pa·m3/s,測量不確定度為9.1%。
這種方法的不足之處就是測量下限不能到達5×10-6Pa·m3/s及以下,且測量結果的不確定度大,測量時間長,主要原因為:這種方法是通過測量定容室的壓升來測量正壓漏孔的漏率,當正壓漏孔的漏率小于5×10-6Pa·m3/s時,需要用1小時或更長時間來累積壓力,而在這段時間內,由溫度變化產生的壓力波動會對漏率測量結果產生較大影響;且定容室壓力上升后,不能滿足正壓漏孔出口端為1個大氣壓的測量條件,會產生測量不確定度分量。
發明內容
本發明提供一種正壓漏孔漏率的測量方法,該方法利用活塞在變容室運動來改變變容室容積,使變容室的壓力在測量開始和測量結束時保持一致;通過測量變容室的壓力、活塞橫截面積、活塞移動距離和實驗時間,計算出正壓漏孔的漏率;變容室的壓力變化曲線為鋸齒型;該方法可以測量5×10-6Pa·m3/s及以下的漏率,且測量時間短,同時將測量不確定度由以前的9.1%,減小到小于5%。
一種正壓漏孔漏率的測量方法,其采用的正壓漏孔漏率測量裝置由第四真空閥門1、第二真空閥門3、第一真空閥門5、第三真空閥門11,絕對式壓力計2,正壓漏孔4,活塞6,變容室7,差壓式壓力計8,變容室主體9,標準容器10,真空泵12、氣瓶13組成。
正壓漏孔漏率測量裝置的連接關系為:
氣瓶13通過真空閥門1與真空泵12和絕對式壓力計2連接,氣瓶13通過第四真空閥門1、第二真空閥門3與變容室主體9連接,氣瓶13通過第四真空閥門1、第三真空閥門11與標準容器10連接,絕對式壓力計2通過第二真空閥門3與變容室主體9連接,真空泵12通過第三真空閥門11與標準容器10連接,正壓漏孔4通過第一真空閥門5與變容室主體9連接,活塞6與變容室7動密封連接,變容室7與變容室主體9連接,差壓式壓力計8的兩端分別與變容室主體9和標準容積10連接。
正壓漏孔漏率的測量方法為:
(1)將正壓漏孔4通過第一真空閥門5安裝在變容室主體9上,密封連接。
(2)打開真空泵12,打開第二真空閥門3、第三真空閥門11,將變容室7、標準容器10、以及各連接管道抽成真空狀態。
(3)關閉真空泵12,打開第四真空閥門1,將氣瓶13里的氮氣充入變容室7、標準容器10以及各處連接管道中,使得絕對式壓力計2的讀數為一個標準大氣壓,記錄讀數為p0。
(4)關閉第三真空閥門11、第二真空閥門3,記錄時間t1,調整差壓式壓力計8的讀數為0。
(5)監測差壓式壓力計8的讀數,當其讀數與設定值p1的差值的絕對值小于0.01Pa時,活塞6(截面直徑為D)從變容室7中退出,直到差壓式壓力計8的讀數與設定值-p1的差值的絕對值小于0.01Pa時,活塞停止運動,記錄活塞的運動距離為l。
(6)繼續監測差壓式壓力計8的讀數,當其讀數的絕對值小于0.01Pa時,記錄時間為t2。
(7)正用漏孔4的漏率Q用計算得到。
(8)用貝賽爾公式計算漏率測量不確定度,不確定度小于5%則滿足測量要求,不確定度大于5%需要重新測量。
所述步驟(1)中變容室的溫度為23℃;
所述步驟(2)中變容室抽真空后真空度小于1×10-1Pa;
所述步驟(3)中變容室充入的氮氣壓力p0的范圍為(100~101)kPa;
所述步驟(5)中p1的取值為(1~10)Pa;
所述步驟(5)中活塞的截面直徑D小于1.2mm;
所述步驟(7)中漏率Q取n次(n≥6)測量的平均值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國航天科技集團公司第五研究院第五一〇研究所,未經中國航天科技集團公司第五研究院第五一〇研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710304625.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





