[發明專利]一種控制電解槽物料平衡的方法無效
| 申請號: | 200710303613.2 | 申請日: | 2007-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN101275248A | 公開(公告)日: | 2008-10-01 |
| 發明(設計)人: | 王鑫健;張保偉;劉彤 | 申請(專利權)人: | 中國鋁業股份有限公司 |
| 主分類號: | C25C3/20 | 分類號: | C25C3/20 |
| 代理公司: | 中國有色金屬工業專利中心 | 代理人: | 李迎春 |
| 地址: | 100082北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 控制 電解槽 物料 平衡 方法 | ||
1.一種控制電解槽物料平衡的方法,其特征在于其控制過程是利用槽控系統軟測量測得的電解質中的氧化鋁濃度,將其作為槽控系統氧化鋁濃度控制的反饋值;將氧化鋁濃度目標設定值作為氧化鋁下料周期設定的切換條件,通過槽控系統控制氧化鋁下料周期,實現氧化鋁濃度控制在較窄的范圍內。
2.根據權利要求1所述的一種控制電解槽物料平衡的方法,其特征在于其控制過程包括:
(1)槽控系統利用軟測量方法測量出電解槽的氧化鋁濃度值和修正值,并作為槽控系統氧化鋁濃度控制的反饋值;
(2)在槽控系統中通過建立實際氧化鋁濃度與相對氧化鋁濃度的關系,將設定氧化鋁濃度轉化為槽電阻變化率,實現實際氧化鋁濃度計算機控制;
(3)通過在監控主機上設定氧化鋁濃度控制目標值,即設定相對氧化鋁濃度,并通過網絡下傳到槽控機系統,槽控系統將氧化鋁濃度測量值與目標值比較,計算得出電解槽控制的下料周期和下料間隔;
(4)槽控系統通過控制電解槽上的打殼、下料氣缸動作周期和間隔來添加氧化鋁量,實現電解槽內氧化鋁重量百分比濃度在設定范圍內。
3.根據權利要求1所述的一種控制電解槽物料平衡的方法,其特征在于所述在監控主機上設定氧化鋁的重量百分比濃度控制目標值為1.5%~2.5%。
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