[發明專利]磁疇型信息存儲器件及其制造方法有效
| 申請號: | 200710303536.0 | 申請日: | 2007-12-06 |
| 公開(公告)號: | CN101241754A | 公開(公告)日: | 2008-08-13 |
| 發明(設計)人: | 林志慶;左圣熏 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G11C11/15 | 分類號: | G11C11/15 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁疇型 信息 存儲 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一種信息存儲器件,包括:
沿第一方向延伸的襯底;
在該襯底上沿第一方向延伸的磁性層,該磁性層包括被多個可移動磁疇壁分開的多個磁疇,該磁性層包括與所述第一方向基本垂直地延伸的多個磁性層溝槽,在所述多個溝槽中的每個下面該磁性層的下表面向下突出;以及
用于移動所述可移動磁疇壁的功率單元。
2.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該多個磁性層溝槽是等間距的。
3.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該多個磁性層溝槽隨深度而變窄。
4.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該多個磁性層溝槽是V形。
5.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該多個磁性層溝槽的深度約為2nm到50nm。
6.如權利要求2所述的信息存儲器件,其中該等間距約為5nm到1000nm。
7.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該多個磁性層溝槽的最大寬度約為2nm到250nm。
8.如權利要求1所述的信息存儲器件,其中該襯底包括多個襯底溝槽,其位置與該磁性層溝槽對應。
9.如權利要求8所述的信息存儲器件,其中該多個襯底溝槽隨深度而變窄。
10.一種制造磁疇型信息存儲器件的方法,該磁疇型信息存儲器件具有溝槽,該方法包括:
在襯底上形成磁性層,該磁性層具有多個磁性層溝槽。
11.如權利要求10所述的方法,還包括:在該襯底上形成該磁性層前,在該襯底中形成多個襯底溝槽,其中該襯底中的多個襯底溝槽形成所述多個磁性層溝槽。
12.如權利要求11所述的方法,其中該襯底溝槽用納米壓印法形成。
13.如權利要求11所述的方法,其中形成所述多個襯底溝槽包括用母模壓印該襯底并移去所述母模,所述母模在其下表面上具有多個突起。
14.如權利要求13所述的方法,其中該突起隨深度而變窄。
15.如權利要求10所述的方法,其中該多個磁性層溝槽隨深度而變窄。
16.如權利要求11所述的方法,其中該多個磁性層溝槽為V形。
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