[發明專利]再生裝置以及再生方法

無效

• 申請號: 200710302151.2
• 申請日: 2007-12-14
• 公開（公告）號: CN101206879A
• 公開（公告）日: 2008-06-25
• 發明（設計）人: 原雅明;杉木美喜雄;德山一龍;外石滿;田中健二;廣岡和幸
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B7/0065
• 分類號: G11B7/0065;G11B7/125;G03H1/12
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 余剛;吳孟秋

相關技術的交叉參考

本發明包含與于2006年12月14日向日本專利局提交的日本專利申請JP?2006-337511相關的主題，其全部內容結合于此作為參考。

技術領域

本發明涉及再生裝置和再生方法，其用于再生以由于參照光和信號光之間的干涉而產生的干涉條紋的形式記錄在全息記錄介質上的數據。

背景技術

在全息記錄/再生技術中，尤其是在用于光學存儲的全息記錄/再生技術中，諸如透射型液晶面板或者DMD(數字微鏡器件)的SLM(空間光調制器)用于將給定信號光的光強度調制成例如具有電平“1”(例如，對應于高強度)或者電平“0”(例如，對應于低強度)的比特序列。

在光調制中，例如，如圖2所示，SLM對通過SLM的中心部分的信號光的光強度進行調制，并輸出所得到的經過調制的信號光，以使經過調制的信號光被通過SLM的環形外圍部分的參照光圍繞并且從其處輸出。根據待記錄的數據所調制的信號光與參照光一起落在全息記錄介質上，從而出現信號光和參照光之間的干涉，并且所得到的干涉條紋被記錄作為全息記錄介質上的數據。

在數據的再生中，經由SLM僅生成參照光，并且用從SLM輸出的參照光照射全息記錄介質。結果，干涉條紋使參照光衍射。然后，通過衍射光使圖像形成在諸如CCD(電荷耦合器件)或者CMOS(互補金屬氧化物半導體)傳感器的圖像傳感器上，從而再生數據的比特序列。

以同軸方式提供信號光和參照光的方法被稱為同軸方法。

在同軸方法中，進一步通過將相位掩模置于由于SLM執行的空間光強度調制而獲得的光的實像平面上來執行相位調制(例如，見第2006-107663號日本未審查專利申請公開)。

對信號光和參照光都執行使用相位掩模的相位調制。相位調制的目的是在將數據記錄在全息記錄介質上時實現多路復用，如在第2006-107663號日本未審查專利申請公開中所披露的技術。更具體地，可以通過利用具有與在記錄中所使用的相位結構相同的相位結構的參照光照射全息記錄介質，來僅讀取使用具有特定相位結構的參照光記錄的信號光(數據)。因此，如果以使用具有不同相位結構的參照光的多路復用方式分別記錄多個數據，則可以通過利用具有與在記錄數據中所使用的相位結構相同的相位結構的參照光照射全息記錄介質來選擇性地讀取多個數據中想要的數據。

對信號光執行的相位調制是為了提高信號光和參照光之間的干涉效率并擴展信號光的頻譜以抑制DC分量，并因此增大記錄密度。

對于為了上述目的而應用于信號光的相位調制模式，例如，使用了二進制隨機模式。更具體地，例如，在相位調制模式中，設定隨機選擇的一半像素以提供相移π，并且設定剩余的一半像素以不提供相移(相移＝0)。

如上所述，兩個電平的隨機模式的使用能提高參照光和信號光之間的干涉效率。此外，兩個電平的隨機模式使頻譜在傅立葉平面(介質上的圖像)上的均勻地擴展，這能夠減少信號光中所包括的DC分量。

下面參考圖28至圖30來更詳細地描述通過使用相位掩掩模實現的DC分量的抑制。

圖28A示出了包括隨機值(在圖的上部中)及其頻率特性(在圖的下部中)的記錄數據。在圖28B中，在圖的上部中示出了在圖28A所示的待記錄的數據的中心部分，并且在圖的下部中示出了其頻率特性。

應該注意，雖然為了圖示方便，在圖中所示的待記錄的數據具有正方形的形狀，但是，攜帶待記錄的數據的實際信號光在橫截面上基本上是圓形的。這對于諸如圖29和圖30的其它圖也是一樣的。

在圖28A和圖28B各圖的上部所示的數據中，白色區域具有比特值“1”，以及黑色區域具有比特值“0”。在圖28A和圖28B各圖的下部中，表示頻率特性的頻譜分布由灰度級表示。

圖29A、圖29B、圖30A和圖30B示出了通過SLM根據圖28A和圖28B中所示的待記錄的數據執行的調制而獲得的圖像(SLM頁面圖像)，并且還示出了該圖像的頻率特性。更具體地，圖29A示出了在沒有使用相位掩模的情況下產生的整個SLM頁面圖像(在圖的上部中)及其頻率特性(在圖的下部中)，以及圖29B示出了圖29A所示的圖像的中心部分和頻率特性。在圖29A和圖29B的上部中，白色區域具有值“1”，以及灰色區域具有值“0”。