[發明專利]測量設備及采用該測量設備的測量方法無效
| 申請號: | 200710201152.8 | 申請日: | 2007-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN101354239A | 公開(公告)日: | 2009-01-28 |
| 發明(設計)人: | 劉慶;李軍旗 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/04 | 分類號: | G01B11/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 設備 采用 測量方法 | ||
1.一種測量設備,其特征在于:該測量設備包括一個第一接觸式測長裝置、一個基準件及一個控制器,該控制器與該第一接觸式測長裝置電連接,該基準件具有一個第一基準平面,該第一接觸式測長裝置具有一個測量頭,該測量頭在測量時與第一基準平面保持接觸。
2.如權利要求1所述的測量設備,其特征在于:該測量設備還包括一個第二接觸式測長裝置,該基準件還包括一個與第一基準平面相互垂直的第二基準平面;該第二接觸式測長裝置具有一個測量頭,該測量頭在測量時與第二基準平面保持接觸。
3.如權利要求2所述的測量設備,其特征在于:該基準件包括分立的第一基準平板及第二基準平板,該第一基準平面設于第一基準平板上,該第二基準平面設于第二基準平板上,該第一基準平板與第二基準平板相互垂直設置,以使第一基準平面與第二基準平面相互垂直。
4.如權利要求2所述的測量設備,其特征在于:該基準件包括一個基板及由該基板一側垂直該基板延伸形成的側板,第一基準平面設于該基板上,第二基準平面設于側板上。
5.如權利要求2所述的測量設備,其特征在于:該第一接觸式測長裝置及第二接觸式測長裝置分別包括至少一個驅動氣缸,其用于驅動與該驅動氣缸相連的測量頭。
6.如權利要求5所述的測量設備,其特征在于:該驅動氣缸設置有氣體排出結構以使測量頭平穩的移動,該氣體排出結構包括開設在驅動氣缸封閉端的貫通孔、開設在驅動氣缸側壁上的貫通孔、設在驅動氣缸與插入該驅動氣缸開口端的吹氣管之間的間隙中的任意一種結構或多個結構的組合。
7.如權利要求6所述的測量設備,其特征在于:該第一接觸式測長裝置及第二接觸式測長裝置還包括一個光學標尺和一個光感應器,該光學標尺或光感應器之一可與測量頭一起移動,該光感應器用于讀取該光學標尺的刻度。
8.一種測量方法,用于測量滑動件在沿第一方向延伸的導軌上的運動誤差,其特征在于包括以下步驟:(1)提供一個測量設備,一個第一接觸式測長裝置、一個基準件及一個控制器,該控制器與該第一接觸式測長裝置電連接,該第一接觸式測長裝置具有一個可伸縮的測量頭,該基準件具有一個第一基準平面;(2)將第一接觸式測長裝置設置于滑動件上,且使第一接觸式測長裝置的測量頭可沿垂直于第一方向的第二方向伸縮運動;(3)將基準件定位,以使第一接觸式測長裝置的測量頭與基準件的第一基準平面相抵;(4)使滑動件沿導軌移動,該第一接觸式測長裝置的測量頭與第一基準平面保持接觸;(5)控制器根據第一接觸式測長裝置的測量結果得出滑動件沿第二方向的真實運動軌跡,并與預定運動軌跡比較,得出該滑動件沿第二方向的運動誤差。
9.如權利要求8所述的測量方法,其特征在于:該測量設備還包括一個第二接觸式測長裝置,該第二接觸式測長裝置具有一個可伸縮的測量頭,該基準件還包括一個與第一基準平面相互垂直的第二基準平面;將該第二接觸式測長裝置設置于滑動件上,且使第二接觸式測長裝置的測量頭可沿垂直于第一、第二方向的第三方向伸縮運動,該第二接觸式測長裝置的測量頭在測量時與基準件的第二基準平面保持接觸;控制器根據第二接觸式測長裝置的測量結果得出滑動件沿第三方向的真實運動軌跡,并與預定運動軌跡比較,得出該滑動件沿第三方向的運動誤差。
10.如權利要求9所述的測量方法,其特征在于:該第一接觸式測長裝置及第二接觸式測長裝置還包括一個光學標尺和一個光感應器,該光學標尺或光感應器之一可與測量頭一起移動,該光感應器用于讀取該光學標尺刻度,并將讀取到的數據傳送給控制器。
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