[發明專利]發光二極管照明裝置

無效

• 申請號: 200710200745.2
• 申請日: 2007-06-01
• 公開（公告）號: CN101315163A
• 公開（公告）日: 2008-12-03
• 發明（設計）人: 章紹漢
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: F21V13/00
• 分類號: F21V13/00;F21V17/00;F21V19/00;F21Y101/02
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技術領域

本發明涉及一種照明裝置，尤其涉及一種采用發光二極管的照明裝置。

背景技術

發光二極管(Light?Emitting?Diode，LED)具有環保、較高的機械可靠性與較高的使用壽命的特點，所以采用LED作為照明裝置的光源為目前的新趨勢。

請參見圖1，所示為一種現有的長條狀的發光二極管照明裝置10(下稱：LED照明裝置)。該LED照明裝置10包括燈箱11、電路板12、側光式LED光源13、遮光件14、LED頂部反射片15及燈蓋16。該燈箱11為中空的長條形結構，其具有一開口112。該電路板12也為長條形，相應設置于該燈箱11的底部。該多個側光式LED光源13電連接排布于該電路板12的上表面。該反射元件14為小燈箱結構，其可相應由開口112嵌入該燈箱11。該反射元件14具有多個相互連接的側壁142和底板144，且該側壁142及底板144均為反射面。該底板144具有相對應于該多個LED光源13的多個通孔146。該反射元件14位于該多個LED光源13頂部，且該多個LED光源13的出光部分別穿過該多個通孔146。該多個LED頂部反射片15相應設置于該多個LED光源13的頂部。該燈蓋16可為擴散片或透明板，其封蓋于該燈箱11的開口112處。該多個LED光源13所發出的光束于該反射元件14的側壁142或底板144反射后，最終通過燈蓋16出射。

然而，上述側光式LED光源13即使與該LED頂部反射片15搭配，LED光源13所發射的光束于該反射元件14及燈蓋16組成的空間內充分混光，相鄰LED光源13之間仍有較明顯的暗區。也就是說，點光源仍無法有效轉換為均勻面光源，所以導致LED照明裝置10出射光亮度不均。綜上所述，上述現象將導致LED照明裝置品質下降。

因此，有必要提供一種可提高出光均勻性的LED照明裝置。

發明內容

本發明提供一種可提高出光均勻性的LED照明裝置。

一種發光二極管照明裝置，其包括一個具有開口的燈箱、一塊電路板、至少一個發光二極管及一個燈蓋；該電路板設置于燈箱底部；該至少一個發光二極管電連接設置于該電路板表面；該燈蓋封蓋于該燈箱開口處，該發光二極管照明裝置還包括一個設置于該燈箱內部的反射元件及與上述至少一個發光二極管相對應的遮光件；該反射元件包括一個底板，該底板上開設有與至少一個發光二極管相對應的通孔，該發光二極管相應穿過該通孔；該遮光件包括一個位于該發光二極管上方的基板及從該基板邊緣向其一側延伸形成的兩個相對的側擋板，且基板靠近該兩側擋板處分別開設有多個透光孔。

又一種發光二極管照明裝置，其包括一個具有開口的燈箱、一塊電路板、至少一個發光二極管及一個燈蓋；該電路板設置于燈箱底部；該至少一個發光二極管電連接設置于該電路板表面；該燈蓋封蓋于該燈箱開口處，該電路板朝向該燈蓋的表面具有一反射涂層；該發光二極管照明裝置還包括與該至少一個發光二極管相對應的遮光件，該遮光件包括一個位于相應發光二極管上方的基板及從該基板邊緣向其一側延伸形成的兩個相對的側擋板，該兩側板分別抵持于燈箱的兩側壁，且基板靠近該兩側擋板處分別開設有多個透光孔。

另一種發光二極管照明裝置，其包括一個具有開口的燈箱、一塊電路板、至少一個發光二極管及一個燈蓋；該電路板設置于燈箱底部；該至少一個發光二極管電連接設置于該電路板表面；該燈蓋封蓋于該燈箱開口處，該發光二極管照明裝置還包括一個設置于該燈箱內部的反射片及至少一個遮光件，該反射片覆蓋于電路板朝向該燈蓋的表面；該至少一個遮光件與該至少一個發光二極管相對應，其包括一個位于該發光二極管上方的基板及從該基板邊緣向其一側延伸形成的兩個相對的側擋板，且基板靠近該兩側擋板處分別開設有多個透光孔。

相對于現有技術，上述LED照明裝置的遮光件可與設置于燈箱內部且與該遮光件相對的反射元件或反射涂層或反射片構成光束多重反射空間，LED光源發出的光束進入該多重反射空間內經多次反射并充分混合后，部分光束由多個相鄰遮光件的空隙出射，部分光束由遮光件的透光孔出射，從而有效降低LED光源正上方的出射光亮度，以使相鄰兩LED光源的間隙不致產生暗區，所以該LED照明裝置具有較佳的光學均勻性。

附圖說明

圖1是一種現有LED照明裝置的立體分解示意圖。

圖2是本發明較佳實施例一的LED照明裝置的立體分解示意圖。

圖3是圖2所示LED照明裝置去除燈蓋后的俯視圖。

圖4是圖3沿IV-IV線的局部剖面放大示意圖。

圖5是圖3沿V-V線的部分剖面放大示意圖。