[發(fā)明專利]低輻射玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710200311.2 | 申請日： | 2007-03-21 |
| 公開（公告）號： | CN101269917A | 公開（公告）日： | 2008-09-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳杰良 | 申請（專利權(quán)）人： | 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/34 | 分類號： | C03C17/34;B32B33/00;B32B17/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 輻射 玻璃 | ||
1.?一種低輻射玻璃，包括玻璃基體和設(shè)置于玻璃基體表面的低輻射膜，其特征在于，所述低輻射膜由多層二氧化鈦膜層和多層二氧化硅膜層交替疊加形成，所述低輻射膜的總膜層數(shù)為30~40層，所述低輻射膜中與玻璃基體相接觸的膜層為二氧化鈦膜層，低輻射膜的最外層膜層為二氧化硅膜層。
2.?如權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述玻璃基體具有相對的第一表面和第二表面，所述低輻射膜設(shè)置于所述第一表面，所述第二表面設(shè)置有抗反射層。
3.?如權(quán)利要求2所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述抗反射層由多層高折射率膜層和多層低折射率膜層交替疊加形成，所述抗反射層與第二表面接觸的膜層為高折射率膜層，抗反射層的最外層為低折射率膜層。
4.?如權(quán)利要求3所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述高折射率膜層為選自二氧化鉭、硫化鋅、二氧化鈦中的一種。
5.?如權(quán)利要求3所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述低折射率材料為選自氟化鎂、二氧化硅中的一種。
6.?如權(quán)利要求2所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述抗反射層的總膜層數(shù)為4層。
7.?如權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述二氧化鈦膜層、二氧化硅膜層的光學(xué)膜厚為λC/4，其中，λC為設(shè)計波長。
8.?如權(quán)利要求7所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述二氧化鈦膜層的物理膜厚為λC/(4nH)，二氧化硅膜層的物理膜厚為λC/(4nL)，其中，nH為二氧化鈦膜層的折射率，nL為二氧化硅膜層的折射率。
9.?如權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于，以所述低輻射膜與玻璃接觸的膜層為第一層，第一層膜層的物理膜厚為1.18λC/(4nH)，與第一層相接觸的膜層為第二層，第二層膜層的物理膜厚為1.134λC/(4nL)，低輻射膜的最外層膜層的物理膜厚為λC/(8nL)，其中，nH為二氧化鈦膜層的折射率，nL為二氧化硅膜層的折射率。
10.?如權(quán)利要求1所述的低輻射玻璃，其特征在于，所述低輻射玻璃對可見光的透射率大于90％，對紅外輻射的透射率小于5％。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司，未經(jīng)鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710200311.2/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
