[發明專利]曝光裝置無效
| 申請號: | 200710200121.0 | 申請日: | 2007-01-26 |
| 公開(公告)號: | CN101231372A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發明(設計)人: | 袁崐益 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B7/02 | 分類號: | G02B7/02;B29C35/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種曝光裝置,特別涉及一種可用于鏡頭模組組裝過程中的曝光裝置。
背景技術
應用在相機或光學儀器上的鏡頭模組通常包括鏡頭座、鏡筒、透鏡組、間隔環和濾光片等元件。其中,透鏡組、間隔環和濾光片沿鏡頭模組的光軸方向依次固定于鏡筒內。鏡筒外壁和鏡頭座內壁通常設有相配合的螺紋,鏡筒通過螺紋旋入到鏡頭座內固定。
在鏡頭模組的組裝過程中,將鏡片、濾光片等光學元件組入鏡筒并將其固定,通常需要在光學元件上涂上UV膠(紫外線膠),在利用曝光機的光源發出的UV光將光學元件上的UV膠固化,從而使鏡片、濾光片等光學元件固定在鏡筒中。然而,現有的曝光機的光源所發出的UV光均存在光強分布不均的情況,一般越靠近光源中心的位置光強越強,如果涂有UV膠的光學元件被光強較大的光照射后容易造成曝光過度,而使UV膠黃化失去粘附功能;如果UV膠被光強較小的光照射后容易造成曝光不足,而使UV膠無法固化,并無法牢固的粘住光學元件。
發明內容
有鑒于此,有必要提供一種可以使被曝光物均勻曝光的曝光裝置。
以下將以實施例說明一種可以使被曝光物均勻曝光的曝光裝置。
一種曝光裝置,其包括光源及一個與該光源相對設置的承載機構,該光源發出的光束投射到該承載機構上,該承載機構包括一個承載臺,一個設置在該承載臺上且設置有內齒牙的齒圈,一個設置在該承載臺上且與該齒圈共中心軸線的第一齒輪,至少一個設置在該齒圈與該第一齒輪之間且分別與該齒圈的內齒牙及該第一齒輪相嚙合的第二齒輪,所述至少一個第二齒輪的與該光源相面對的表面上設置有至少一個用于容置被曝光物的容置槽,所述至少一個第二齒輪繞該中心軸線旋轉的同時可以繞其自身的中心線自轉。
相對于現有技術,所述至少一個第二齒輪可以繞其自身的中心線自轉,以使所述至少一個第二齒輪上的用以容置被曝光物的至少一個容置槽與該光源的相對距離產生周期性變化,即該容置槽將周期性的經過由光源產生的光強較強的區域和光強較弱的區域,所述至少一個第二齒輪可以繞該第一齒輪的中心軸線旋轉,以使該容置槽周期性的經過由光源產生的沿該第一齒輪的圓周方向的光強較強的區域和光強較弱的區域,從而使被曝光物均勻曝光。
附圖說明
圖1是本發明第一實施例的曝光裝置的結構示意圖。
圖2是圖1中沿II-II的剖視圖。
圖3是本發明第二實施例的曝光裝置的結構示意圖。
圖4是圖3中沿IV-IV的剖視圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本發明的曝光裝置作進一步的詳細說明。
請參見圖1,本發明第一實施例提供的一種曝光裝置10,其包括光源11及一個與該光源11相對設置的承載機構12。
該光源11用于發出能使被曝光物曝光的光束并投射到該承載機構12上,例如紫外光等,在本實施例中,該光源11設置在相對于該承載機構12的一個固定位置。
該承載機構12包括一個承載臺121,一個齒圈122,一個中心齒輪123,一個驅動源124及四個旋轉齒輪125。
該齒圈122固設在該承載臺121上,該齒圈122設置有內齒牙1221,該內齒牙1221的類型及參數可以根據實際需要進行設定。
該中心齒輪123設置在該承載臺121上且與該齒圈122共中心軸線O1,該中心齒輪123設置有外齒牙1231。
該驅動源124用以驅動該中心齒輪123使其繞中心軸線O1自轉。在本實施例中,該驅動源124包括一個驅動器1241及一個傳動軸1242,該驅動器1241是一個馬達,其設置在該承載臺121的背離該光源11的一側,該傳動軸1242的一端該中心齒輪123的中心位置固定連接,其另一端穿過該承載臺121與該驅動器1241機械耦合。該驅動器1241驅動該傳動軸1242旋轉以帶動該中心齒輪123繞中心軸線O1旋轉,同時該中心齒輪123的旋轉速度也可由該驅動器1241來控制。
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