[發明專利]離子注入裝置

無效

• 申請號: 200710193462.X
• 申請日: 2007-11-27
• 公開（公告）號: CN101192499A
• 公開（公告）日: 2008-06-04
• 發明（設計）人: 藤田秀樹
• 申請（專利權）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01L21/265
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 梁曉廣;陸錦華

1.一種離子注入裝置，其中，將形成為帶狀的離子束照射到靶上，該帶狀在X方向上具有比在基本垂直于X方向的Y方向上尺寸大的尺寸，該離子注入裝置包括：

第一和第二磁體，其設置于靶的上游側，跨帶狀離子束的路徑在Y方向上相互面對，并且與帶狀離子束行進方向交叉，

其中第一和第二磁體的每一個都具有在離子束的入口側和出口側的一對磁極，且在第一磁體和第二磁體之間其極性相反，和

第一和第二磁體在一個方向上產生磁場，以使得將向內的洛侖茲力施加到兩個磁體之間的離子束，并且在Y方向上窄化該離子束。

2.如權利要求1的離子注入裝置，其中帶狀離子束通過在X方向上掃描離子束或者不在X方向上掃描來形成。

3.如權利要求1的離子注入裝置，其中，除了第一磁體和第二磁體在極性上彼此相反之外，第一和第二磁體都被相對于對稱平面基本平面對稱地設置，所述對稱平面通過離子束路徑的Y方向上的中心并且基本垂直于X方向和Y方向。

4.如權利要求1的離子注入裝置，其中第一和第二磁體被設置成與離子束行進方向傾斜交叉。

5.如權利要求2的離子注入裝置，其中第一和第二磁體設置在離子束在X方向上被以扇狀掃描的離子束路徑上，

第一和第二磁體分別具有在離子束行進方向上突出的弧形，使得在X方向上每個掃描位置處的離子束前進方向和以最短距離連接在每一磁體的一對磁極之間的直線之間形成的角度基本總是恒定的。

6.如權利要求1的離子注入裝置，還包括：

離子束偏轉裝置，其被配置來通過磁場或電場使處于能量狀態下的離子束偏轉以照射到靶上，并分開離子束和中性粒子，

其中第一和第二磁體至少設置在離子束偏轉裝置的下游側附近。

7.如權利要求1的離子注入裝置，還包括：

離子束偏轉裝置，其被配置來通過磁場或電場使處于能量狀態下的離子束偏轉以照射到靶上，并分開離子束和中性粒子，

其中第一和第二磁體至少被設置在離子束偏轉裝置的上游側附近。

8.如權利要求1至7中任一項的離子注入裝置，其中第一和第二磁體是永磁體。

9.如權利要求1或7中任一項的離子注入裝置，其中第一和第二磁體是電磁體。