[發(fā)明專利]一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710193130.1
• 申請日: 2007-11-30
• 公開（公告）號: CN101275270A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 段欣生;王連方;王燦輝
• 申請（專利權(quán)）人: 洛陽軸研科技股份有限公司
• 主分類號: C25F3/24
• 分類號: C25F3/24
• 代理公司: 洛陽市凱旋專利事務(wù)所
• 代理人: 符繼超

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于表面處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及到一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝。

背景技術(shù)

國內(nèi)現(xiàn)有工藝比較多，但實際應(yīng)用中，其拋光效果并不理想，即采用現(xiàn)有工藝對馬氏體不銹鋼軸承保持架進行拋光處理，不能得到理想的均勻光亮的外觀。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問題，本發(fā)明提出了一種馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝，該工藝通過改進拋光液的配方，改進拋光工藝來得到較理想的拋光效果。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

所述的馬氏體不銹鋼保持架電拋光工藝采用兩次處理的方式，首先通過預(yù)處理，再通過電化學(xué)拋光實現(xiàn)，其中

I、預(yù)處理

i、預(yù)處理液配方按體積百分比組成為：20～25％H₂SO₄、5～8％HCL、3～7％HNO₃、1～2％甘油、蒸餾水余量；

ii、上述預(yù)處理液配方中H₂SO₄，HCL，HNO₃可去除保持架表面氧化皮和油污，甘油防止過腐蝕，將馬氏體不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液3～8分鐘直到氧化皮去除為止，經(jīng)流動水清洗后，去除水分；

II、電化學(xué)拋光

i、電化學(xué)拋光液配方按質(zhì)量百分比組成為：50～60％H₃PO₄、10～18％H₂SO₄、4～8％CrO₃、14～18％甘油、蒸餾水余量；

ii、電化學(xué)拋光液配制過程：先用蒸餾水溶解CrO₃，然后按比例加入H₃PO₄，并攪拌均勻，再緩慢加入H₂SO₃，并充分攪拌均勻；穩(wěn)定十分鐘，再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng)，甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液中；

iii、拋光：把馬氏體不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光；溫度為85℃～95℃，電流強度為8～15A/dm²，時間為5～10分鐘，陰極為鉛版；拋光后用流動水清洗，然后用5％Na₂CO₃溶液中和，用流動水清洗干凈，再用乙醇溶液去水后在烘干機上烘干即可。

由于采用如上所述的技術(shù)方案，本發(fā)明具有如下優(yōu)越性：

以上工藝經(jīng)實際馬氏體不銹鋼保持架拋光檢驗切實可行，工件均一光亮。

具體實施方式

實施例1

3Cr13不銹鋼保持架，其拋光工藝實施如下：

I、預(yù)處理液

i、按體積百分比預(yù)處理液的配比為：22％H₂SO₄、7％HCL、4％HNO₃、2％甘油、蒸餾水余量；

ii、將3Cr13不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液中4分鐘去除氧化皮，經(jīng)流動水清洗干凈；

II、電化學(xué)拋光

i、按質(zhì)量百分比電化學(xué)拋光液配比為：56％H₃PO₄、14％H₂SO₄、4.5％CrO₃、18％甘油、蒸餾水余量；

ii、電化學(xué)拋光液配制過程：先用蒸餾水溶解CrO₃，然后按比例加入H₃PO₄，并攪拌均勻，再緩慢加入H₂SO₃，并充分攪拌均勻；穩(wěn)定十分鐘，再加入稍許甘油發(fā)生反應(yīng)，甘油一定要分多次少量逐步添加到溶液中，待溶液穩(wěn)定后待用；

iii、拋光：把3Cr13不銹鋼保持架放入拋光槽中拋光，溫度為90℃，電流強度為10A/dm²，時間為8分鐘，陰極為鉛版；拋光后用流動水清洗，然后用5％Na₂CO₃溶液中和，后用流動水清洗干凈，再用乙醇溶液去水后在烘干機上烘干即可。

實施例2

4Cr13不銹鋼保持架。其拋光實施過程為：

I、預(yù)處理液

i、按體積百分比預(yù)處理液的配比為：20％H₂SO₄、6％HCL、5％HNO₃、2％甘油、蒸餾水余量；

ii、將4Cr13不銹鋼保持架浸泡在該預(yù)處理液中3分鐘去除氧化皮，經(jīng)流動水清洗干凈；

II、電化學(xué)拋光