[發(fā)明專利]噴嘴板、噴嘴板的制造方法、液滴噴出頭及液滴噴出裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710185787.3
• 申請日: 2007-12-26
• 公開（公告）號: CN101284447A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發(fā)明（設計）人: 櫻井直明;山邊純成;小泉洋
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社東芝
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14;B41J2/16
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 吳麗麗

1.一種噴嘴板，其特征在于，包括：

第1硅層；

玻璃層；

設置在所述第1硅層與所述玻璃層之間、并與所述玻璃層接合的第2硅層；以及

設置在所述第1硅層與所述第2硅層之間的氧化硅層，

該噴嘴板形成有：

貫通所述第1硅層并噴出液滴的噴嘴孔；

貫通所述氧化硅層及所述第2硅層、并與所述噴嘴孔連通的流路；以及

形成在所述玻璃層上并與所述流路連通的液室。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，

所述流路的開口直徑大于所述噴嘴孔的開口直徑，

所述液室的開口直徑大于所述流路的開口直徑。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，

還包括：在所述玻璃層的與所述第2硅層相反一側(cè)與所述玻璃層相接觸地被設置、并由與所述玻璃層不同的材料形成的液室層，

所述液室在所述液室層上延伸而成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，

在所述噴嘴孔的內(nèi)壁面上形成有包覆膜，該包覆膜由相對于從所述噴嘴孔噴出的液體的親和性高于硅的材料組成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴嘴板，其特征在于，

所述包覆膜由氧化硅組成。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的噴嘴板，其特征在于，

在所述第1硅層的外側(cè)表面上設置有防水層，該防水層由相對于從所述噴嘴孔噴出的液體的親和性低于所述包覆膜的材料組成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，

所述噴嘴孔的出口側(cè)的開口直徑與入口側(cè)的開口直徑相等或在其之下。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，所述接合是陽極接合。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，所述流路具有朝向所述噴嘴孔收斂的開口形狀。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴板，其特征在于，

還包括：在與所述玻璃層的所述第2硅層相反一側(cè)與所述玻璃層接合、并由與玻璃不同的材料組成的液室層，

所述液室在所述液室層上延伸而成。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的噴嘴板，其特征在于，

在所述液室層的面對所述液室的壁面上，設置有由與所述液室層不同的材料組成的包覆層。

12.一種噴嘴板，其特征在于，包括：

硅層；以及

與所述硅層接合的玻璃層，

該噴嘴板形成有：

貫通所述硅層并噴出液滴的噴嘴孔；以及

形成在所述玻璃層上并與所述噴嘴孔連通的液室，

在所述噴嘴孔的內(nèi)壁面上形成有包覆膜，該包覆膜由相對于從所述噴嘴孔噴出的液體的親和性高于硅的材料組成。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴嘴板，其特征在于，

所述包覆膜由氧化硅組成。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴嘴板，其特征在于，

所述接合是陽極接合。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴嘴板，其特征在于，

與所述玻璃層接近一側(cè)的所述噴嘴孔的開口端的開口直徑與遠離所述玻璃層一側(cè)的所述噴嘴孔的開口端的開口直徑相同或在其之上。

16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的噴嘴板，其特征在于，

在所述第1硅層的外側(cè)表面上設置有防水層，該防水層由相對于從所述噴嘴孔噴出的液體的親和性低于所述包覆膜的材料組成。

17.一種噴嘴板的制造方法，其特征在于，

形成噴嘴孔，該噴嘴孔貫通具有第1硅層、第2硅層及設置在所述第1硅層與所述第2硅層之間的氧化硅層的層疊體的所述第1硅層；

形成貫通所述第2硅層的流路；

通過除去暴露在所述流路的底部的所述氧化硅層，使所述噴嘴孔與所述流路連通；

將形成有液室的玻璃層與所述第2硅層進行陽極接合，從而使所述流路與所述液室連通。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的噴嘴板的制造方法，其特征在于，

在所述噴嘴孔的內(nèi)壁上形成氧化硅。