[發明專利]光近場產生裝置、光近場產生方法及信息記錄和再現裝置

有效

• 申請號: 200710185775.0
• 申請日: 2007-10-08
• 公開（公告）號: CN101261837A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發明（設計）人: 本鄉一泰;渡邊哲
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B5/00
• 分類號: G11B5/00;G11B5/012;G11B5/74
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 馬高平

1.一種光近場產生裝置，包括：

光源；

光透射襯底；以及

被光源發射的光照射以產生光近場的導電散射體，其中，

所述導電散射體形成在光透射襯底的具有不同高度的平面上，包括形成于與被施加光近場的物體最接近的表面上的第一區域和形成于相比第一區域遠離所述物體的表面上的第二區域，并且從所述散射體的第一區域朝向所述物體產生光近場。

2.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，

所述散射體從所述第一區域產生光近場，所述第一區域的至少一部分形成為大致平行于物體表面的平坦表面。

3.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，所述散射體具有如下關系：

h1≤h2，

h1為第一區域的厚度，h2為第二區域中距離第一區域最遠的部分的厚度。

4.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，

所述散射體形成在所述襯底的三個或更多個具有不同高度的平面上。

5.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，

所述散射體形成在設置于所述襯底的一個或多個平面以及一個或多個傾斜于上述平面的平面上。

6.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，

從垂直于所述物體的表面的方向觀察，所述散射體的第一區域的形狀由多邊形、圓形或者橢圓的至少一部分或者由它們的組合形成。

7.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，進一步包括：

在所述襯底上的位于所述散射體的第一區域的附近的一單獨的導電散射體，

散射體之間的間隔等于或者小于所述光源所發射的光的波長。

8.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，

所述散射體埋入所述襯底中。

9.根據權利要求8所述的光近場產生裝置，其中，

所述散射體的第一區域的至少一部分形成為與所述物體的表面平行的表面，并且該平行表面和所述襯底的表面相互大致齊平。

10.根據權利要求1所述的光近場產生裝置，其中，進一步包括：

光屏蔽薄膜，形成在所述散射體周圍。

11.一種用光照射導電散射體以產生光近場的光近場產生方法，包括如下步驟：

形成所述散射體，該散射體具有沉積在以不同高度設置于光透射襯底的平面上的形狀；

使形成于襯底最高表面的區域布置成以等于或者小于光近場到達長度的距離接近物體的表面；

施加所述光近場給所述物體的表面。

12.一種信息記錄和再現裝置，包括：

光源；

光透射襯底；

面對信息記錄介質的散射體；以及

光學系統，具有將光源發射的光導入散射體的功能，

其中由所述散射體產生的光近場被施加給信息記錄介質的預定位置以記錄信息到信息記錄介質，并且

所述散射體形成在光透射襯底的具有不同高度的平面上，包括形成于與被施加光近場的信息記錄介質最接近的表面上的第一區域和形成于相比第一區域遠離信息記錄介質的表面上的第二區域，并且從散射體的第一區域朝向信息記錄介質的預定位置產生光近場。

13.根據權利要求12所述的信息記錄和再現裝置，其中，進一步包括：

在襯底表面至少一部分上圍繞散射體形成的一導體，

電流施加到所述導體，該導體作為在第一區域附近產生磁場的磁場產生部分。

14.根據權利要求12所述的信息記錄和再現裝置，其中，

所述散射體從所述第一區域產生光近場，所述第一區域的至少一部分形成為大致平行于信息記錄介質表面的平坦表面。

15.根據權利要求12所述的信息記錄和再現裝置，其中，所述散射體具有如下關系：

h1≤h2，

h1為第一區域的厚度，h2為第二區域中距離第一區域最遠的部分的厚度。

16.根據權利要求12所述的信息記錄和再現裝置，其中，

所述散射體形成在所述襯底的三個或更多個具有不同高度的平面上。