[發明專利]靜電卡盤的診斷方法、真空處理裝置和存儲介質

有效

• 申請號: 200710181281.5
• 申請日: 2007-10-26
• 公開（公告）號: CN101170057A
• 公開（公告）日: 2008-04-30
• 發明（設計）人: 佐佐木康晴;岡城武敏
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/683;H01L21/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍淳

1.一種靜電卡盤的診斷方法，對設置在真空容器內的載置臺上、用于利用靜電力對基板進行吸附保持的靜電卡盤的調溫性能的經時劣化進行診斷，其特征在于，包括：

工序(a)，在利用靜電卡盤對基板進行吸附保持、并且向基板的背面與靜電卡盤的表面之間供給用于調整基板的溫度的調溫氣體的狀態下，反復實施對基板進行真空處理的工序；

工序(b)，夾著該工序(a)，將被靜電卡盤吸附保持的基板暴露于使用診斷用的處理方案生成的氣氛并且對該基板的溫度進行檢測，對所述調溫氣體的壓力進行調整，使得溫度檢測值成為規定溫度，并將此時的調溫氣體的壓力值存儲在存儲部中；和

工序(c)，根據所述存儲部中存儲的調溫氣體的壓力值，對所述靜電卡盤的調溫性能的劣化進行診斷。

2.如權利要求1所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述工序(b)夾著所述工序(a)反復進行。

3.如權利要求2所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

對所述靜電卡盤的調溫性能的劣化進行診斷的工序(c)，根據由反復進行的工序(b)取得的調溫氣體的壓力值的時間序列數據而進行。

4.如權利要求1或2所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

對所述靜電卡盤的調溫性能的劣化進行診斷的工序(c)，包括對調溫氣體的壓力值是否低于設定值進行判斷的工序。

5.如權利要求1～4中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

應用所述診斷用的處理方案的基板是維護用的基板。

6.如權利要求1～5中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述基板的溫度的檢測由設置在載置臺上的溫度檢測部進行。

7.如權利要求1～5中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述維護用的基板搭載有溫度檢測部，所述基板的溫度由該溫度檢測部檢測。

8.如權利要求7所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述溫度檢測部的溫度檢測值在將基板從真空容器中搬出后被取得，當基板的溫度檢測值偏離規定溫度時，改變調溫氣體的壓力，再次將所述基板暴露于使用診斷用的處理方案生成的氣氛，并取得溫度檢測值。

9.如權利要求1～8中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述真空處理是使用等離子體的處理。

10.如權利要求1～9中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述靜電卡盤的表面在通過噴鍍形成電介質的粉末后進行研磨。

11.如權利要求1～9中任一項所述的靜電卡盤的診斷方法，其特征在于：

所述靜電卡盤的表面由具有與所述基板大致相同的外形的環狀凸部、和在該凸部的內周側形成并形成為與所述凸部相同的高度的多個柱狀體構成，所述溫度調整用的氣體在所述凸部的內周側的柱狀體間流通。

12.一種真空處理裝置，用于在向被設置在真空容器內的載置臺上的靜電卡盤所吸附保持的基板的背面與靜電卡盤的表面之間供給用于調整基板的溫度的調溫氣體的狀態下，對基板進行真空處理，其特征在于，包括：

對基板的溫度進行檢測的溫度檢測部；

對所述調溫氣體的壓力進行檢測的壓力檢測部；

對所述調溫氣體的壓力進行調整的壓力調整部；

用于存儲該壓力檢測部的壓力檢測值的存儲部；

執行單元，夾著對多塊基板依次實施的真空處理，將被所述靜電卡盤吸附保持的基板暴露于使用診斷用的處理方案生成的氣氛，并且通過所述壓力調整部對調溫氣體的壓力進行調整，使得所述溫度檢測部的溫度檢測值成為規定溫度，將此時的所述壓力檢測部的壓力檢測值存儲在存儲部中；和

根據所述存儲部中存儲的調溫氣體的壓力檢測值，對所述靜電卡盤的調溫性能的劣化進行診斷的診斷單元。

13.如權利要求12所述的真空處理裝置，其特征在于：

應用所述診斷用的處理方案的基板是維護用的基板。

14.如權利要求12或13所述的真空處理裝置，其特征在于：

所述診斷單元根據夾著所述真空處理而取得的調溫氣體的壓力值的時間序列數據，對所述靜電卡盤的調溫性能的劣化進行診斷。