[發明專利]光學拾取裝置和光學再現方法

無效

• 申請號: 200710180143.5
• 申請日: 2007-10-10
• 公開（公告）號: CN101162592A
• 公開（公告）日: 2008-04-16
• 發明（設計）人: 伊藤紳三郎;大北英生;辨天宏明;長島賢治;竹田亨
• 申請（專利權）人: 船井電機株式會社
• 主分類號: G11B7/13
• 分類號: G11B7/13;G11B7/135
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 王玉雙

技術領域

本發明涉及一種光學拾取裝置和光學再現方法。

背景技術

光學記錄系統具有各種優點，例如，可以以非接觸方式對光學記錄介質進行記錄和再現，以及可以執行隨機訪問。因此，光學記錄系統在工業世界和一般公眾中被廣泛使用。

光學記錄系統中，有只讀和可重復寫入的兩種光學記錄介質，以及用于在這種光學記錄介質上執行記錄和再現的光學拾取裝置被廣泛且通常使用。此外，相比于一般的磁記錄介質，該光學記錄介質具有非常高的記錄密度，而為了進一步增加記錄密度，用于記錄和再現的激光束點的直徑被減小，進而光學記錄介質中相鄰光軌之間的距離以及相鄰凹陷之間的距離被縮短。

在目前作為典型光學記錄介質實際使用的只讀DVD-ROM中，在12cm直徑的盤上可以實現用于單面單層的4.7G比特、用于單面雙層的8.5G比特、用于雙面單層的9.4G比特以及用于雙面雙層的17G比特的高密度記錄。在可重復寫入且可擦除的DVD-RAM中，可以實現用于單面單層的4.7G比特及用于雙面單層的9.4G比特的高密度記錄。如上所述，盡管光學記錄介質的記錄密度逐年增加，但是由于數據被記錄在該光學記錄介質的記錄表面上，因此由于光衍射極限的約束而導致記錄密度存在著實際限制。

因此，作為進一步增加光學記錄介質的記錄密度的方法，提出一種方法，在該方法中多值數據而不是二進制數據被記錄在一個記錄凹陷(recordingpit)中的方法，其實例被公開在JP-A-H11-238251中。

在JP-A-H11-238251所公開的發明中，將光學記錄介質的記錄層用作1/4波長板或1/2波長板，并且通過對應于入射至光學記錄介質上的線性偏振光的偏振方向而旋轉1/4波長板或1/2波長板的方向來進行多值記錄。此外，在記錄層用作1/4波長板情況中通過檢測來自光學記錄介質的再現光線的反射光線的偏振方向，或者在記錄層用作1/2波長板的情況中通過檢測來自光學記錄介質的再現光線的透射光線的偏振方向，來再現記錄在光學介質上的信息。通過檢偏器(analyzer)的旋轉以及檢測器對光量的測量，實現對偏振方向的檢測。

依據在JP-A-H11-238251中所公開的發明，由于能夠通過旋轉記錄層的1/4波長板或1/2波長板的方向來記錄多值，因此可以獲得能夠高密度記錄的光學記錄介質。此外，由于記錄層的1/4波長板或1/2波長板的方向的動態范圍如90度一樣大，因此可以高S/N比(信噪比)對記錄在光學記錄介質上的信息進行再現。

然而，在JP-A-H11-238251中，在再現時，通過檢偏器的旋轉以及檢測器對光量的測量，檢測反射光或投射光的偏振方向。因此，存在再現速度降低的問題。

發明內容

考慮到上面問題，本發明的目的是提供一種光學拾取裝置，該光學拾取裝置在通過測量來自光學記錄介質的多個偏振方向中的各個偏振方向的光線的光量來再現記錄在光學記錄介質上信息的情況下，可以以高S/N和高速度進行再現。此外，本發明的另一目的是提供一種光學再現方法，該光學再現方法在通過對來自光學記錄介質在多個偏振方向中的各個中的光線的光量進行測量、再現記錄在光學記錄介質上信息的情況中可以以高S/N和高速度進行再現。

為了實現上面目的，依據本發明的方案，光學拾取裝置包括檢測單元，該檢測單元從光學記錄介質中接收光線并檢測記錄在該光學記錄介質上的信息。并且該檢測單元包括光學元件和光量測量單元，該光學元件同時從來自光學記錄介質的光線中以分離狀態分別提取具有不同偏振方向的多個特定光線，該光量測量單元同時對通過該光學元件提取的多個特定光線中的各個特定光線進行光量測量。

據此，為了再現記錄在光學記錄介質上的信息，在必需測量來自光學記錄介質的光線在多個偏振方向的各個偏振方向上的光量的情況中，使用光學元件同時從來自光學記錄介質的光線中以分離狀態分別提取具有不同偏振方向的多個特定光線，以及該光量測量單元同時對通過該光學元件提取的多個特定光線中的各個特定光線進行光量測量。因此，與通過旋轉上述檢偏器從來自光學記錄介質的光線中分別順序地提取具有不同偏振方向的多個特定光線并且分別測量提取的光量的方法相比較，高速再現成為可能。此外，由于使用光量的比率，因此再現光的光量波動不會有影響。

在本發明中，在上述結構的光學拾取裝置中，理想的是光學元件相對于多個特定光線中的各個特定光線從多個位置提取光線。

據此，由于相對于具有不同偏振方向的各個光線從多個位置提取光線，因此可以抑制由于盤的諸如裂縫之類所產生的影響。也就是，高S/N再現變得可能。