[發(fā)明專利]一種實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的方法、光記錄介質(zhì)及其制作方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710178784.7 | 申請(qǐng)日: | 2007-12-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101452714A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 裴京;唐毅;倪屹;潘龍法;徐海崢;熊劍平;陸達(dá) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G11B7/013 | 分類號(hào): | G11B7/013;G11B7/007;G11B7/26 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 周國(guó)城 |
| 地址: | 10008*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實(shí)現(xiàn) 存儲(chǔ) 方法 記錄 介質(zhì) 及其 制作方法 | ||
1.一種在光記錄介質(zhì)上實(shí)現(xiàn)多階游程長(zhǎng)度受限存儲(chǔ)的方法,包括步驟:
在用于存儲(chǔ)信息的坑的游程長(zhǎng)度方向上形成奇數(shù)段個(gè)相接的子坑 和子岸,并且使所述坑的游程長(zhǎng)度上的第一段和最后一段形成為子坑;
在用于存儲(chǔ)信息的岸的游程長(zhǎng)度方向上形成奇數(shù)段個(gè)相接的子坑 和子岸,并且使所述岸的游程長(zhǎng)度上的第一段和最后一段形成為子岸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,控制所述子坑和子岸的 長(zhǎng)度,使所述坑在分解后的讀出信號(hào)不超過切分電平;控制所述子坑和子 岸的長(zhǎng)度,使所述岸在分解后的讀出信號(hào)不低于切分電平。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述在坑的游程長(zhǎng)度方 向上形成的子岸的長(zhǎng)度小于岸的游程長(zhǎng)度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述在岸的游程長(zhǎng)度方 向上形成的子坑的長(zhǎng)度小于坑的游程長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所 得子岸/子坑的長(zhǎng)度,使讀出信號(hào)的升高/降低的幅度不同,實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所 得子岸/子坑的位置,使讀出信號(hào)的升高/降低的位置不同,實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所 得子坑/子岸組合段的數(shù)目實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所 得子岸/子坑的長(zhǎng)度,改變對(duì)坑/岸分解所得子岸/子坑的位置,改變對(duì)坑/ 岸分解所得子坑/子岸組合段的數(shù)目三種方式中的兩種或三種方式的組合 實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述光記錄介質(zhì)的游程 長(zhǎng)度是受限的,在所述光記錄介質(zhì)的通道序列中,兩個(gè)非“0”數(shù)據(jù)之間 最少有d個(gè)“0”,最多有k個(gè)“0”,其中,k、d均為整數(shù),k大于等于d, d大于等于0,參數(shù)d確定了出現(xiàn)在所述通道序列中的最小游程長(zhǎng)度,參 數(shù)k確定了出現(xiàn)在所述通道序列中的最大游程長(zhǎng)度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述游程長(zhǎng)度決定了 實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ)的階數(shù),部分游程長(zhǎng)度只實(shí)現(xiàn)二值存儲(chǔ)。
11.一種制造實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的光記錄介質(zhì)的方法,包括步驟:
刻錄母盤,形成不同游程長(zhǎng)度的坑和岸;
制作金屬的負(fù)像副盤;
使用注塑機(jī)壓制盤片;
對(duì)壓制出的盤片進(jìn)行濺鍍;
壓模模壓成光盤;
其特征在于,所述刻錄母盤步驟中,在用于存儲(chǔ)信息的坑的游程長(zhǎng)度 上形成奇數(shù)段個(gè)相接的子坑和子岸,并且使所述坑的游程長(zhǎng)度上的第一段 和最后一段形成為子坑;在用于存儲(chǔ)信息的岸的游程長(zhǎng)度上形成奇數(shù)段個(gè) 相接的子坑和子岸,并且使所述岸的游程長(zhǎng)度上的第一段和最后一段形成 為子岸,以實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的光記錄介質(zhì)的方法, 其特征在于,控制所述子坑和子岸的長(zhǎng)度,使所述坑在分解后的讀出信號(hào) 不超過切分電平;控制所述子坑和子岸的長(zhǎng)度,使所述岸在分解后的讀出 信號(hào)不低于切分電平。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的光記錄介質(zhì)的方法, 其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所得子岸/子坑的長(zhǎng)度,使讀出信號(hào)的 升高/降低的幅度不同,實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的光記錄介質(zhì)的方法, 其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所得子岸/子坑的位置,使讀出信號(hào)的 升高/降低的位置不同,實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造實(shí)現(xiàn)多階存儲(chǔ)的光記錄介質(zhì)的方法, 其特征在于,通過改變對(duì)坑/岸分解所得子坑/子岸組合段的數(shù)目實(shí)現(xiàn)多階 存儲(chǔ)。
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