[發(fā)明專利]一種改性碳化硅粉末及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710178257.6 | 申請日: | 2007-11-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101450801A | 公開(公告)日: | 2009-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬自力;樊建中;左濤;張琪;徐駿;石力開 | 申請(專利權(quán))人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號(hào): | C01B31/36 | 分類號(hào): | C01B31/36;B02C19/06;B02C23/08 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 耿小強(qiáng) |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改性 碳化硅 粉末 及其 制備 方法 | ||
1、一種改性的碳化硅粉末,其特征在于:所述碳化硅粉末由微觀 表面粗糙、外形圓整、沒有尖銳棱角的碳化硅顆粒組成。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的改性的碳化硅粉末,其特征在于:所述 碳化硅粉末顆粒的粒度范圍為2~25μm,平均粒度在5~20μm范圍內(nèi)。
3、一種改性碳化硅粉末的制備方法,包括下述步驟:(1)打開引 風(fēng)機(jī)使研磨室產(chǎn)生適當(dāng)?shù)呢?fù)壓,將粒度范圍在2~30μm、重量適當(dāng)?shù)? 普通碳化硅粉末引入碳化硅粉末改性處理裝置中的錐底圓筒形研磨 室;(2)同時(shí)底部噴嘴通入0.001~0.05MPa的干燥凈化壓縮空氣使碳 化硅粉末可以上下循環(huán)蠕動(dòng);(3)通過水平均布、相對噴射的兩組對 噴噴嘴通入0.1~0.5MPa干燥凈化壓縮空氣進(jìn)行粉末自研磨;(4)自 研磨產(chǎn)生的邊角碎粉通過旋風(fēng)除塵裝置收集處理。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的改性碳化硅粉末的制備方法,其特征在 于:所述碳化硅粉末改性處理裝置的結(jié)構(gòu)為:包括錐底圓筒形研磨室、 分級輪、旋風(fēng)除塵裝置、引風(fēng)機(jī)以及加料斗,所述加料斗位于所述錐 底圓筒形研磨室的下部;所述錐底圓筒形研磨室的下部設(shè)有底部噴嘴; 所述錐底圓筒形研磨室的下部側(cè)面設(shè)有水平均布、相對噴射的兩組對 噴噴嘴;所述錐底圓筒形研磨室上部設(shè)有分級輪,并通過管道與所述 旋風(fēng)除塵裝置相連接,所述旋風(fēng)除塵裝置下端設(shè)有集塵罐;所述旋風(fēng) 除塵裝置通過管道與所述引風(fēng)機(jī)相連接。
5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的改性碳化硅粉末的制備方法,其特征在 于:所述步驟(3)中所述自研磨的時(shí)間為0.5~24小時(shí),對噴研磨氣 流壓強(qiáng)為0.1~0.5MPa。
6、一種專門用于處理碳化硅粉末的裝置,其特征在于:包括錐底 圓筒形研磨室、分級輪、旋風(fēng)除塵裝置、引風(fēng)機(jī)以及加料斗,所述加 料斗位于所述錐底圓筒形研磨室的下部;所述錐底圓筒形研磨室的下 部設(shè)有底部噴嘴;所述錐底圓筒形研磨室的下部側(cè)面設(shè)有水平均布、 相對噴射的兩組對噴噴嘴;所述錐底圓筒形研磨室上部設(shè)有分級輪, 并通過管道與所述旋風(fēng)除塵裝置相連接,所述旋風(fēng)除塵裝置下端設(shè)有 集塵罐;所述旋風(fēng)除塵裝置通過管道與所述引風(fēng)機(jī)相連接。
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