[發(fā)明專利]微機(jī)械開關(guān)低應(yīng)力氮氧化硅橋膜的制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710176081.0
• 申請(qǐng)日: 2007-10-19
• 公開（公告）號(hào): CN101159199A
• 公開（公告）日: 2008-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉澤文;胡光偉;劉理天;李志堅(jiān)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號(hào): H01H49/00
• 分類號(hào): H01H49/00;B81C5/00
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 廖元秋

1.一種微機(jī)械開關(guān)低應(yīng)力氮氧化硅橋膜的制備方法，其特征在于，在制備微機(jī)械開關(guān)的介質(zhì)橋膜的步驟中，采用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積方法，在常規(guī)的工藝條件下，通過調(diào)節(jié)反應(yīng)氣體流量比，一次淀積制備出氮氧化硅介質(zhì)層；所述的反應(yīng)氣體由硅烷、氨氣和氧化二氮組成。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述反應(yīng)氣體流量比為：用氬氣稀釋成5-15％的硅烷∶氨氣∶氧化二氮＝(25-40)∶(8-16)∶(5-10)每分鐘標(biāo)準(zhǔn)毫升，氮?dú)鈽?biāo)定。