[發(fā)明專利]一種用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710173570.0 | 申請(qǐng)日: | 2007-12-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101216676A | 公開(公告)日: | 2008-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張祥翔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 201203上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 微光 照明 光學(xué)系統(tǒng) | ||
1.一種用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:包括:
兩個(gè)或兩個(gè)以上帶橢球反射鏡的高壓汞燈光源;
與所述高壓汞燈光源數(shù)目相同的石英棒勻光系統(tǒng);
二次勻光系統(tǒng);
聚光鏡模塊;
中繼透鏡模塊;和
掩模板;
所述高壓汞燈光源位于所述橢球反射鏡的一個(gè)焦點(diǎn)上;所述高壓汞燈光源發(fā)出的光進(jìn)入所述石英棒勻光系統(tǒng);所述石英棒勻光系統(tǒng)射出的光同時(shí)進(jìn)入所述二次勻光系統(tǒng);所述二次勻光系統(tǒng)出射的光進(jìn)入所述聚光鏡模塊;經(jīng)過聚光鏡模塊后,次級(jí)光源成像在所述中繼透鏡模塊的物方焦面;所述中繼透鏡模塊在掩模板位置形成遠(yuǎn)心照明視場(chǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述石英棒勻光系統(tǒng)包括:
入射光導(dǎo)入45°棱鏡;
出射光導(dǎo)出45°棱鏡;和
石英棒;
所述入射光導(dǎo)入45°棱鏡的入射端位于與所述石英棒勻光系統(tǒng)對(duì)應(yīng)的所述高壓汞燈光源的橢球反射鏡的另一個(gè)焦點(diǎn)上;所述入射光導(dǎo)入45°棱鏡的出射端緊貼所述石英棒的一端;所述石英棒的另一端緊貼所述出射光導(dǎo)出45°棱鏡的入射端;所有出射光導(dǎo)出45°棱鏡的出射端相互緊靠,并位于同一平面內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述二次勻光系統(tǒng)可以是兩組微透鏡陣列,其中一個(gè)微透鏡陣列緊貼所述石英棒勻光系統(tǒng)的出射端。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述兩組微透鏡陣列的彎曲面相對(duì)放置,相距為所述微透鏡陣列的焦距。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述二次勻光系統(tǒng)可以是鍍膜的補(bǔ)償板,所述補(bǔ)償板緊貼所述石英棒勻光系統(tǒng)的出射端。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述聚光鏡模塊包括準(zhǔn)直鏡和場(chǎng)鏡,所述場(chǎng)鏡位于所述準(zhǔn)直鏡焦點(diǎn)附近。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于微光刻的照明光學(xué)系統(tǒng),其特征在于:所述中繼透鏡模塊為4F雙遠(yuǎn)心結(jié)構(gòu)。
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