[發明專利]一種化學機械拋光液

無效

• 申請號: 200710172712.1
• 申請日: 2007-12-21
• 公開（公告）號: CN101463226A
• 公開（公告）日: 2009-06-24
• 發明（設計）人: 宋偉紅;姚穎;陳國棟;包建鑫
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09G1/18
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學機械拋光液，其特征在于含有：磨料、氧化劑和水，以及下述含氮有機物中的一種或多種：含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物，以及胺類化合物；磨料的含量為小于或等于質量百分比15％。

2.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物選自吡啶、嘧啶、哌啶、哌嗪、噻唑、三唑、四唑，以及上述化合物的衍生物中的一種或多種。

3.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于：所述的衍生物為帶巰基和/或羧基和/或氨基的衍生物。

4.如權利要求2所述的拋光液，其特征在于：所述的含有1～4個氮原子的雜環化合物及其衍生物選自5-羧基-3-氨基-1，2，4三氮唑、2-氨基嘧啶、3-氨基-1，2，4三氮唑、5-巰基-3-氨基-1，2，4三唑、二巰基苯丙噻唑、哌嗪六水、甲基苯丙三氮唑、2，3-二氨基吡啶和1-苯基-5-巰基-四氮唑中的一種或多種。

5.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的胺類化合物選自二胺、二乙烯三胺和多烯多胺中的一種或多種。

6.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的含氮有機物的含量為質量百分比0.01～1％。

7.如權利要求6所述的拋光液，其特征在于：所述的含氮有機物的含量為質量百分比0.1～0.5％。

8.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的磨料為SiO₂和/或Al₂O₃。

9.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的磨料的含量為質量百分比2～10％。

10.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的氧化劑為過氧化物和/或過硫化物。

11.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的氧化劑的含量為質量百分比0.1～10％。

12.如權利要求1所述的拋光液，其特征在于：所述的拋光液的pH值為2～5。