[發(fā)明專利]一種化學機械拋光液的制備工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710171975.0 | 申請日： | 2007-12-07 |
| 公開（公告）號： | CN101451045A | 公開（公告）日： | 2009-06-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 黃大洋 | 申請（專利權）人： | 安集微電子（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203上海市浦東新區(qū)張江高科*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 制備 工藝 | ||
1.一種化學機械拋光液的制備工藝，其特征在于包括如下步驟：將化學機械拋光液的各成分按其工作機理、功能、化學或物理性質分組，平行的將每組的成分分別進行混合，得到各中間預混物，對中間預混物進行質量控制測試，全部中間預混物檢測合格后，進行混合，制得化學機械拋光液，其中所述的將化學機械拋光液的各成分按其工作機理、功能、化學或物理性質分組按如下方案進行：
中間預混物1A：研磨顆粒和水；
中間預混物2A：流體力學控制劑和水；
中間預混物3A：表面活性劑、絡合劑、緩蝕劑和殺菌劑中的一種或多種，以及水和pH值調節(jié)劑；
中間預混物4A：pH值調節(jié)劑；或
中間預混物1B：流體力學控制劑、研磨顆粒和水；
中間預混物2B：表面活性劑、絡合劑、緩蝕劑和殺菌劑中的一種或多種，以及水和pH值調節(jié)劑；
中間預混物3B：pH值調節(jié)劑；或
中間預混物1C：研磨顆粒和水；
中間預混物2C：流體力學控制劑和水；
中間預混物3C：緩蝕劑和水；
中間預混物4C：表面活性劑、絡合劑和殺菌劑中的一種或多種，以及水和pH值調節(jié)劑；
中間預混物5C：pH值調節(jié)劑；或?
中間預混物1D：流體力學控制劑、研磨顆粒和水；
中間預混物2D：表面活性劑、絡合劑、緩蝕劑和殺菌劑中的一種或多種，以及水和pH值調節(jié)劑。
2.如權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：中間預混物3A中pH值調節(jié)劑和中間預混物4A中pH值調節(jié)劑的比例，或者中間預混物2B中pH值調節(jié)劑和中間預混物3B中pH值調節(jié)劑的比例，或者中間預混物4C中pH值調節(jié)劑和中間預混物5C中pH值調節(jié)劑的質量比為60～80%：20～40%。
3.如權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：所述的質量控制測試為對pH、濃度、固含量、顆?？倲?shù)檢測和痕量金屬離子含量檢測的質量控制測試。?
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