[發(fā)明專利]調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)及其測量方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710171968.0
• 申請日: 2007-12-07
• 公開（公告）號: CN101187783A
• 公開（公告）日: 2008-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 關(guān)俊
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)包括物光柵、第一成像系統(tǒng)、第二成像系統(tǒng)、探測光柵和探測模塊，該第一成像系統(tǒng)可將物光柵經(jīng)光束照明成像于被測對象以形成第一光柵像，該第二成像系統(tǒng)可將該第一光柵像成像于該探測光柵以形成第一探測像，該第一探測像與該探測光柵疊加形成第一莫爾條紋，該第一莫爾條紋被該探測模塊探測，該探測模塊的位置信息固定，該被測對象的位置信息表現(xiàn)于該第一莫爾條紋相對于該探測模塊的位置信息。

2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：還包括一對偏置平板相對該被測對象對稱分布于該第一成像系統(tǒng)和該第二成像系統(tǒng)，該對偏置平板用于調(diào)節(jié)該調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)的零點。

3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該探測光柵與該第一探測像參數(shù)相同且該探測光柵與該第一探測像成一夾角放置。

4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該探測模塊的敏感方向與該第一莫爾條紋的移動方向一致。

5.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：還包括置于該第二成像系統(tǒng)和該探測模塊之間的放大模塊。

6.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該第一成像系統(tǒng)還可將該物光柵經(jīng)該光束照明成像于投影物鏡下表面以形成第二光柵像，該第二成像系統(tǒng)還可將該第二光柵像成像于該探測光柵以形成第二探測像，該第二探測像與該探測光柵疊加形成第二莫爾條紋，該第二莫爾條紋被該探測模塊探測，該投影物鏡下表面的位置信息表現(xiàn)于該第二莫爾條紋相對于該探測模塊的位置信息。

7.如權(quán)利要求6所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該光束包括用于形成該第一光柵像的測量光和用于形成該第二光柵像的參考光。

8.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：還包括光源模塊和照明模塊，該光源模塊發(fā)出的該光束經(jīng)該照明模塊照明該物光柵。

9.如權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)，其特征在于：該第一和第二成像系統(tǒng)分別包括成像模塊，其中第一成像系統(tǒng)中的成像模塊為像方遠(yuǎn)心或雙遠(yuǎn)心，第二成像系統(tǒng)中的成像模塊為物方遠(yuǎn)心或雙遠(yuǎn)心。

10.一種采用權(quán)利要求1所述的調(diào)焦調(diào)平測量系統(tǒng)的測量方法，其特征在于，該方法包括下列步驟：

物光柵經(jīng)光束照明成像于該被測對象以形成第一光柵像；

該第一光柵像成像于探測光柵以形成第一探測像；

該第一探測像與該探測光柵疊加形成第一莫爾條紋；

該第一莫爾條紋被探測模塊探測，其中該探測模塊位置固定；

根據(jù)該第一莫爾條紋相對于該探測模塊的位置信息計算該被測對象的位置信息。

11.如權(quán)利要求10所述的測量方法，其特征在于：該探測光柵與該第一探測像參數(shù)相同且該探測光柵與該第一探測像成一夾角放置。

12.如權(quán)利要求10所述的測量方法，其特征在于：該探測模塊的敏感方向與該第一莫爾條紋的移動方向一致。

13.如權(quán)利要求10所述的測量方法，其特征在于，該方法還包括下列步驟：

該物光柵經(jīng)該光束照明成像于投影物鏡下表面以形成第二光柵像；

該第二光柵像成像于該探測光柵以形成第二探測像；

該第二探測像與該探測光柵疊加形成第二莫爾條紋；

根據(jù)該第二莫爾條紋相對于該探測模塊的位置信息計算該投影物鏡下表面的位置信息；

差分該被測對象和該投影物鏡下表面的位置信息以得到該被測對象相對該投影物鏡下表面的位置信息。

14.如權(quán)利要求13所述的測量方法，其特征在于，該方法還包括下列步驟：

分束該光束為測量光和參考光，其中該測量光用于形成該第一光柵像，該參考光用于形成該第二光柵像。