[發明專利]一種折反射式投影光學系統

有效

• 申請號: 200710171966.1
• 申請日: 2007-12-07
• 公開（公告）號: CN101201451A
• 公開（公告）日: 2008-06-18
• 發明（設計）人: 儲兆祥;郭秀萍;李鐵軍
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G02B17/08
• 分類號: G02B17/08;G02B1/02
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種折反射式投影光學系統，其特征在于：所述折反射式投影光學系統包括：

由第一透鏡組和第二透鏡組組成的第一透鏡系統；

與入射主光軸呈45度設置的平面反射鏡；

反射凹面朝向所述平面反射鏡且相互成直角設置的球面反射鏡一和球面反射鏡二；以及

第三透鏡組；

成像光穿過所述第一透鏡系統后，射向所述平面反射鏡的背面；所述成像光一部分被所述平面反射鏡吸收，未被吸收的部分射向所述球面反射鏡一；所述球面反射鏡一反射成像光線到所述平面反射鏡的反射面；所述平面反射鏡的反射面將所述成像光反射到所述球面反射鏡二；所述成像光經過所述球面反射鏡二反射，一部分被所述平面反射鏡遮擋，未被遮擋的部分進入所述第三透鏡組在像面成像。

2.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述第一透鏡組與第二透鏡組之間的空間距離需要大于入射到所述第二透鏡組的所述成像光尺寸的1.5倍。

3.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：從所述第二透鏡組出射的光束角度小于5度。

4.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述平面反射鏡的攔光區域小于入射的所述成像光的30％。

5.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述平面反射鏡的一個表面鍍有高反射膜，另一個表面鍍吸收膜。

6.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述平面反射鏡的材料基底為低熱膨脹系數的材料。

7.根據權利要求6所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述低熱膨脹系數的材料可以是SiO₂。

8.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述第三透鏡組靠近像面的鏡片表面可以為平面。

9.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述折反射式投影光學系統應用于大于0.75的數值孔徑時，可以將球面反射鏡一和球面反射鏡二替換為非球面反射鏡。

10.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述像面與所述第三透鏡組靠近像面的鏡片之間可以填充液體介質。

11.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述成像光可以使用紫外波段的光譜，所述紫外波段的光譜可以是365nm，可以是248nm、可以是193nm，還可以是157nm。

12.根據權利要求1所述的折反射式投影光學系統，其特征在于：所述平面反射鏡可以使用不同尺寸進行替換。