[發明專利]管路系統、光刻設備、泵以及降低管路系統振動的方法有效
| 申請號: | 200710168155.6 | 申請日: | 2007-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN101187782A | 公開(公告)日: | 2008-05-28 |
| 發明(設計)人: | 馬丁內斯·維爾姆斯·范登尤維爾;約翰尼斯·克里斯汀·里昂納多斯·弗蘭肯;約瑟夫斯·柯尼利厄斯·約翰尼斯·安東尼斯·瓦格斯特 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 管路 系統 光刻 設備 以及 降低 振動 方法 | ||
1.一種用于光刻設備的管路系統,包括:
至少一個導管,用于引導液體或液-氣混合物;以及
氣體噴嘴,其被構造用于在液體或液-氣混合物中引入氣體,以至少部分地吸收在所述液體或液-氣混合物中的壓力峰值或壓力波。
2.根據權利要求1所述的管路系統,還包括被構造用于抽取所述液體或液-氣混合物的泵,所述泵包括:
泵進口;
泵出口;以及
在泵進口和泵出口之間用于壓縮所述液體或液-氣混合物的泵室,
其中所述氣體噴嘴被設置在所述泵中。
3.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述泵還包括與所述泵進口流體連通的進口閥以及與所述泵出口流體連通的出口閥。
4.根據權利要求1所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴與壓力氣體源相連。
5.根據權利要求4所述的管路系統,其中,所述壓力氣體的壓力高于所述管路系統內至少在氣體噴射入所述液體或液-氣混合物中所在的位置處的壓力。
6.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述泵室包括被構造用于增加和減小泵室的體積的壓縮元件。
7.根據權利要求6所述的管路系統,其中,所述壓縮元件是隔膜。
8.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述泵是包括用于壓縮所述液體或液-氣混合物的一個或多個齒輪的齒輪泵。
9.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴被設置在泵出口中。
10.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴被設置在泵的配管中。
11.根據權利要求2所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴至少部分地通過或沿著與泵出口相連的管路或配管被引導,其中所述氣體噴嘴終止于泵出口中或在泵出口附近。
12.根據權利要求11所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴是環形的或主要是環形的,并圍繞泵出口配管或管路的外圍設置。
13.根據權利要求1所述的管路系統,其中,所述管路系統是冷卻水回路。
14.根據權利要求1所述的管路系統,其中,所述管路系統是浸沒系統的一部分。
15.根據權利要求1所述的管路系統,其中,所述氣體噴嘴被設置在所述管路系統的彎管或縮口附近。
16.一種光刻設備,包括:
照射系統,其被構造用于調節輻射束;
支架,其被構造用于保持圖案形成裝置,所述圖案形成裝置能夠將其橫截面中的圖案賦予輻射束,以形成圖案化的輻射束;
襯底臺,其被構造用于保持襯底;
投影系統,其被構造用于將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上;以及
根據權利要求1所述的管路系統。
17.根據權利要求16所述的光刻設備,其中,所述管路系統是被構造用于將液體提供到第一目標和第二目標之間的浸沒系統的一部分,其中所述第一目標是投影系統,而所述第二目標是當支撐在襯底臺上時的襯底。
18.根據權利要求16所述的光刻設備,其中,所述管路系統是冷卻流體系統的一部分。
19.根據權利要求18所述的光刻設備,其中,所述冷卻流體系統包括襯底臺的冷卻水回路。
20.一種被構造用于抽取所述液體或液-氣混合物的泵,所述泵包括:
泵進口;
泵出口;以及
在泵進口和泵出口之間的泵室,在所述泵室中,所述液體或液-氣混合物被壓縮,
其中所述氣體噴嘴被設置在所述泵中。
21.根據權利要求20所述的泵,還包括與所述泵進口流體連通的進口閥和與泵出口流體連通的出口閥;以及被構造用于壓縮所述流體的泵致動裝置。
22.一種用于充分地減小在管路系統中對于光刻設備中的液流的壓力波或壓力峰值的方法,由于所述管路系統中的液體的壓縮導致出現振動,所述方法包括步驟:將氣體噴射入液流中,以至少部分地吸收所述壓力波或壓力峰值。
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