[發(fā)明專利]圖案修改裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710166982.1
• 申請(qǐng)日: 2007-11-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101178538A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大庭博明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: NTN株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;G02F1/1335
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 張?chǎng)?/td>

1.一種圖案修改裝置，修改基板上形成的微細(xì)圖案的缺陷部，其特征在于，具有

使修改液附著在涂敷針的前端部，并使該涂敷針上下移動(dòng)，以便在所述缺陷部涂敷所述修改液用的修改液涂敷單元；

按照位置指令信號(hào)，使所述修改液涂敷單元對(duì)所述基板相對(duì)移動(dòng)的定位單元；

根據(jù)應(yīng)涂敷所述修改液的目標(biāo)位置的坐標(biāo)和校正所述涂敷針的位置偏移用的校正值，產(chǎn)生所述位置指令信號(hào)，以便使所述修改液涂敷在所述目標(biāo)位置的控制單元；以及

校正單元，該校正單元在進(jìn)行更新所述校正值的校正模式時(shí)，給所述控制單元提供所述目標(biāo)位置的坐標(biāo)，使所述修改液涂敷在虛設(shè)基板的表面，檢測(cè)出所述目標(biāo)位置與實(shí)際涂敷所述修改液的涂敷位置的位置偏移量，并根據(jù)其檢測(cè)結(jié)果，更新所述校正值。

2.如權(quán)利要求1中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

所述校正單元在規(guī)定的周期執(zhí)行所述校正模式。

3.如權(quán)利要求1中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

具有在規(guī)定的周期對(duì)操作者通知應(yīng)執(zhí)行所述校正模式的通知單元，

所述校正單元根據(jù)所述操作者的執(zhí)行所述校正模式的指示執(zhí)行所述校正模式。

4.如權(quán)利要求1中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

所述校正單元在利用所述涂敷針涂敷所述修改液的前后，拍攝所述虛設(shè)基板表面的圖像，對(duì)涂敷前后的圖像進(jìn)行比較，提取亮度不一致的不一致部分，并將提取的不一致部分的重心位置判定為所述涂敷位置。

5.如權(quán)利要求1中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

所述校正單元在利用所述涂敷針涂敷所述修改液的前后，拍攝所述虛設(shè)基板表面的圖像，對(duì)涂敷前后的圖像進(jìn)行比較，提取亮度不一致的不一致部分，并將提取的不一致部分的外接長(zhǎng)方形的中心判定為所述涂敷位置。

6.如權(quán)利要求4或5中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

所述虛設(shè)基板是鏡子，

所述校正單元進(jìn)行反射照明，并拍攝所述鏡子的圖像。

7.如權(quán)利要求1中所述的圖案修改裝置，其特征在于，

所述校正單元將所述虛設(shè)基板的表面劃分成多個(gè)區(qū)，選擇與上次的所述校正模式時(shí)選擇的區(qū)域不同的區(qū)域，并將選擇的區(qū)域內(nèi)的坐標(biāo)作為所述目標(biāo)位置的坐標(biāo)供給所述控制單元。