[發(fā)明專利]用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710165634.2 | 申請日: | 2007-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN101172855A | 公開(公告)日: | 2008-05-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 駱樹立;王建堂;駱如田;駱如河;曹立江;朱素峰 | 申請(專利權)人: | 河北鵬達新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/48 | 分類號: | C04B35/48;C04B35/622 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識產(chǎn)權代理事務所 | 代理人: | 常玉明;陳俊由 |
| 地址: | 057250*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化釔 作為 穩(wěn)定劑 四方 多晶 氧化鋯 陶瓷 低溫 燒結 制備 方法 | ||
1.用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法,其特征在于:以MgO-Al2O3-SiO2復合前驅體溶膠和Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米超細粉末為原料,包括前驅體溶膠的制備和細晶陶瓷的制備,具體工藝步驟如下:
A).以含Mg離子的可溶性鹽、含Al離子的可溶性鹽和Si(OC2H5)4為原料,其中MgO∶Al2O3∶SiO2的摩爾比為(0.3-0.8)∶(2.3-6)∶(1-3.5);首先將Si(OC2H5)4水解24小時,再將含有Mg、Al離子的可溶性鹽分別溶解在去離子水中;以Si(OC2H5)4水解溶液為基液,將含Mg、Al離子的溶液分別同步滴入基液中,通過滴加氨水控制pH值為9-10.5,在滴定過程不斷攪拌,滴定完畢后仍攪拌30分鐘,形成鎂鋁尖晶石和莫來石的MgO-Al2O3-SiO2復合前驅體溶膠;
B).將Y2O3穩(wěn)定的ZrO2納米超細粉末按固液質量比為(75-85)∶(25-15)加水配成漿料;
C).在上述漿料中加入3-8wt%的MgO-Al2O3-SiO2復合前驅體溶膠,均勻混合球磨;
D).噴霧造粒、成型,在1320-1420℃燒結1-3小時,獲得納米晶粒的用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷。
2.根據(jù)權利要求1所述的用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法,其特征在于:所述的含Mg離子的可溶性鹽是MgCl2·6H2O或Mg(NO3)2·6H2O,所述的含Al離子的可溶性鹽是AlCl3·6H2O或Al(NO3)3·9H2O。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法,其特征在于:所述的MgO∶Al2O3∶SiO2的摩爾比為0.3∶2.3∶1。
4.根據(jù)權利要求1或2所述的用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法,其特征在于:所述的MgO∶Al2O3∶SiO2的摩爾比為0.5∶4.5∶2.3。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法,其特征在于:所述的MgO∶Al2O3∶SiO2的摩爾比為0.8∶6∶3.5。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于河北鵬達新材料科技有限公司,未經(jīng)河北鵬達新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710165634.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:非易失性存儲器件和從其讀取信息的方法
- 下一篇:一種深度處理氨氮污水的方法





