[發明專利]顯影單元及具有其的成像裝置

無效

• 申請號: 200710163397.6
• 申請日: 2007-10-24
• 公開（公告）號: CN101216690A
• 公開（公告）日: 2008-07-09
• 發明（設計）人: 鄭賢善;金鎮喆;梁裕錫
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G03G15/04
• 分類號: G03G15/04;G03G15/08;G03G15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 馬高平;陶鳳波

1.一種成像裝置，其包括：

第一感光元件；

靠近第一感光元件設置的第二感光元件；

靠近第一感光元件設置的第一轉印區域；

靠近第二感光元件設置的第二轉印區域；和

曝光燈，向第一感光元件的一部分和第二感光元件的一部分輻射光；

其中，所述第一感光元件的所述部分相對于第一感光元件的旋轉方向旋轉地位于第一轉印區域的下游，且所述第二感光元件的所述部分相對于第二感光元件的旋轉方向旋轉地位于第二轉印區域的上游。

2.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，還包括：

半透明膜，其設置在曝光燈與第二感光元件之間，用于降低在其間輻射的光的強度。

3.根據權利要求2所述的成像裝置，其中，所述半透明膜具有彎曲表面，用于將光在第二感光元件的表面上匯聚為一點。

4.根據權利要求2所述的成像裝置，其中，還包括：

顯影單元，每個顯影單元都包括所述感光元件之一、將顯影劑附著至所述感光元件的顯影劑供給裝置和將所述感光元件充電至一電位的充電單元，

其中，

所述顯影單元按照可視圖像轉印到轉印介質的順序并排設置，

所述顯影單元包括分別按順序設置在第一位置和末尾位置的第一顯影單元和末尾顯影單元，

所述末尾顯影單元還包括所述半透明膜，且

所述第一顯影單元包括所述曝光燈。

5.根據權利要求4所述的成像裝置，其中，所述末尾顯影單元還包括向所述末尾顯影單元的感光元件表面輻射光的擦除燈，用于使該感光元件的表面電位復位。

6.根據權利要求2所述的成像裝置，其中，所述半透明膜具有下述光學特性，即：其減弱來自曝光燈的光，從而將第二感光元件的表面電位降低到絕對值大約150V到250V。

7.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，還包括：

將各個感光元件充電至一電位的多個充電單元；

將顯影劑附著至各個感光元件從而在各個感光元件的表面上形成可視圖像的多個顯影劑供給裝置；

其中，相應的充電單元、相應的感光元件和相應的顯影劑供給裝置組裝在一起組成顯影單元，且所述曝光燈設置在所述顯影單元之一中。

8.根據權利要求1所述的成像裝置，其中，部分地覆蓋所述曝光燈，從而減小從曝光燈輻射到所述第二感光元件的光的強度。

9.一種成像裝置，其包括：

第一感光元件；

靠近第一感光元件設置的第二感光元件；

設置在所述第一和第二感光元件之間的曝光燈，用于向所述第一和第二感光元件輻射光，并將所述第一感光元件的表面電位復位；和

設置在所述曝光燈和第二感光元件之間的半透明膜，從而來自曝光燈的輻射光穿過半透明膜之后降低第二感光元件的表面電位。

10.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，所述半透明膜降低通過其輻射的光的強度。

11.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，所述半透明膜是彎曲的，并將輻射通過其的光聚焦到所述第二感光元件上。

12.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，所述半透明膜降低通過其輻射的光的強度，從而將所述第二感光元件的表面電位降低到絕對值大約150V到250V。

13.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，還包括：在感光元件上形成靜電潛像的曝光單元；和

將可視圖像從感光元件轉印到轉印介質上的轉印單元。

14.根據權利要求9所述的成像裝置，其中，還包括靠近所述第二感光元件設置的擦除燈，用于使所述第二感光元件的表面電位復位。