[發明專利]具有溫度控制研磨頭的化學機械研磨系統

無效

• 申請號: 200710162859.2
• 申請日: 2007-10-16
• 公開（公告）號: CN101224561A
• 公開（公告）日: 2008-07-23
• 發明（設計）人: 黃見翎;詹政勛
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B29/00;B24B55/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一化學機械研磨系統，用于研磨一晶圓，其特征在于其包括：

一研磨頭；

一內管，連接至該研磨頭，其中該內管填裝有一熱媒介物；

一媒介加熱器，連接至該內管；以及

一壓力控制器，連接至該內管。

2.根據權利要求1所述的化學機械研磨系統，其特征在于還包括：

一載入室位于該研磨頭中并與該內管連接；以及

一薄膜形成于該載入室的一邊，其中該薄膜是熱導性的。

3.根據權利要求2所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的薄膜有一大于0.2W/(m*K)的熱傳導率。

4.根據權利要求2所述的化學機械研磨系統，其特征在于其還包括：

一空氣-至-液體轉換器，連接該內管，其中該空氣-至-液體轉換器將該內管分成連接到該載入室的一第一部份以及連接到該壓力控制器的一第二部份，其中該第一部份用一液體填裝，該第二部份是真空或裝有空氣，且其中該媒介物加熱器連接該內管的該第一部份。

5.根據權利要求4所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的空氣-至-液體轉換器包括一具一彈性薄膜的腔體，其中該彈性薄膜將該載入室分成二個部份。

6.根據權利要求2所述的化學機械研磨系統，其特征在于其還包括：

一另外的載入室，位于該研磨頭，其中該另外的載入室用該熱媒介物填裝；

一另外的內管，連接到該另外的載入室，其中該另外的內管連接到該壓力控制器；以及

一另外的媒介物加熱器，連接到該另外的內管。

7.根據權利要求1所述的化學機械研磨系統，其特征在于其還包括：

一背膜，位于該研磨頭中，其中該背膜包括多個通孔連接該內管和該晶圓的一背面。

8.根據權利要求1所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的媒介物加熱器是連接到該壓力控制器連接該內管的另一面。

9.根據權利要求1所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的媒介物加熱器內建于該壓力控制器中。

10.根據權利要求1所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的媒介物加熱器連接該內管。

11.一種化學機械研磨系統，用于研磨一晶圓，其特征在于其包括：

一研磨頭；

多個內管；

多個載入室位于該研磨頭中且各自分離，其中每個內管連接到該些載入室的其中之一；

一薄膜鄰接這些載入室；

多個媒介物加熱器，其中每個媒介物加熱器接到這些內管的其中之一；以及

一壓力控制器連接至該些內管。

12.根據權利要求11所述的化學機械研磨系統，其特征在于還包括多個空氣-至-液體轉換器，其中每個空氣-至-液體轉換器連接到這些內管其中之一，且其中這些載入室被填裝一液體。

13.根據權利要求12所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的液體有一大于0.2W/(m*K)的熱傳導率。

14.根據權利要求12所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中每個空氣-至-液體轉換器包括一腔體和一彈性薄膜將該腔體分成一第一部份以及一第二個部份，其中該第一部份用該液體填裝且連接到這些載入室的其中之一，以及該第二個部份連接到該壓力控制器，且其中這些媒介物加熱器的其中之一連接該第一部份。

15.根據權利要求11所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的這些媒介物加熱器內建于該壓力控制器中。

16.根據權利要求11所述的化學機械研磨系統，其特征在于其中所述的這些媒介物加熱器連接這些內管的其中之一。