[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710161946.6 | 申請日: | 2003-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN101131970A | 公開(公告)日: | 2008-02-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 藤沢哲也;松木浩久;井川治;愛場喜孝;生云雅光;佐藤光孝 | 申請(專利權(quán))人: | 富士通株式會社 |
| 主分類號: | H01L23/28 | 分類號: | H01L23/28;H01L23/29;H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 張浩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括:
基板;
安裝在基板上的半導(dǎo)體元件;以及
在半導(dǎo)體元件周圍提供的樹脂層,其上表面與半導(dǎo)體元件的上表面處于同一水平,
其中,所述樹脂層為可半固化樹脂,具有當(dāng)在半固化狀態(tài)下加熱時變軟并流體化的特性,所述樹脂層與所述半導(dǎo)體元件的側(cè)表面緊密接觸,兩者之間沒有間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中形成所述半固化狀態(tài)樹脂層的可半固化樹脂的軟化點(diǎn)等于或大于60℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中形成所述樹脂層的可半固化樹脂為B階段環(huán)氧樹脂。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中通過由所述可半固化樹脂形成的粘結(jié)劑將所述半導(dǎo)體元件固定到所述基板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中所述半導(dǎo)體元件的厚度等于或小于50μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,其中多個半導(dǎo)體元件安裝在所述基板上,在半導(dǎo)體元件之間提供所述樹脂層。
7.一種半導(dǎo)體器件的制造方法,特征在于以下步驟:
在基板上形成半固化狀態(tài)的樹脂層,以便將半導(dǎo)體元件設(shè)置到該樹脂層中,該樹脂層由可半固化樹脂組成;
通過加熱使半固化狀態(tài)的填充樹脂層流體化;
通過在間隙中填充流體化的填充樹脂層,消除半導(dǎo)體元件和所述填充樹脂層之間的間隙;以及
通過加熱完全固化所述樹脂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,將所述半導(dǎo)體元件安裝在所述基板上之后,在所述半導(dǎo)體元件周圍形成半固化狀態(tài)的所述樹脂層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,在所述基板上安裝所述半導(dǎo)體元件之前,在所述基板上形成具有用于放置所述半導(dǎo)體元件的開口的半固化狀態(tài)的所述樹脂層。
10.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,使用印刷法將半固化狀態(tài)的所述樹脂層轉(zhuǎn)移到所述基板上。
11.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中在所述基板上形成半固化狀態(tài)的所述樹脂層,使所述填充樹脂層的側(cè)面和所述半導(dǎo)體元件的側(cè)面之間的距離小于所述半導(dǎo)體元件的厚度。
12.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,通過加熱使半固化狀態(tài)的所述樹脂層流體化之前,在所述填充樹脂層和所述半導(dǎo)體元件上覆蓋一層光敏膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,在所述流體化步驟之前,除去所述光敏膜的一部分,該部分對應(yīng)于所述樹脂層的不需要流體化的部分。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中通過將所述光敏膜的所述部分曝光而除去所述膜的該部分。
15.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,通過在等于或高于60℃的溫度下加熱使半固化狀態(tài)的所述樹脂層流體化。
16.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,將半固化狀態(tài)的所述填充樹脂層形成得使半固化狀態(tài)的所述樹脂層的厚度大于所述半導(dǎo)體元件的厚度。
17.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,所述粘結(jié)劑施加到厚度為5μm到20μm的所述半導(dǎo)體元件上,以通過粘結(jié)劑將所述半導(dǎo)體元件固定到所述基板上。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,所述可半固化樹脂用做所述粘結(jié)劑。
19.根據(jù)權(quán)利要求18的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中,通過在等于或低于60℃的溫度下加熱所述粘結(jié)劑將所述粘結(jié)劑設(shè)置在半固化狀態(tài)。
20.根據(jù)權(quán)利要求7的半導(dǎo)體器件的制造方法,其中所述半導(dǎo)體元件的厚度等于或小于50μm。
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