[發(fā)明專利]光學(xué)補償薄膜及其制造方法、偏振光板和液晶顯示裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710161284.2 | 申請日： | 2007-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN101153935A | 公開（公告）日： | 2008-04-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 伊藤洋士 | 申請（專利權(quán)）人： | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;B29C55/00 |
| 代理公司： | 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 陸錦華;黃啟行 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 補償 薄膜 及其 制造 方法 偏振 光板 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種光學(xué)補償薄膜，其特征在于，滿足下列數(shù)學(xué)式(1)～(4)：
50≤Re(550)≤200··············數(shù)學(xué)式(1)
0.4≤Rth(550)/Re(550)≤0.6······數(shù)學(xué)式(2)
0.1＜Re(450)/Re(550)＜0.95·······數(shù)學(xué)式(3)
1.03＜Re(650)/Re(550)＜1.93······數(shù)學(xué)式(4)
在上述數(shù)學(xué)式(1)～(4)中，Re(450)、Re(550)、Re(650)是分別用波長450nm、550nm、650nm的光測量到的面內(nèi)滯后值(單位：nm)，Rth(550)是用波長550nm的光測量到的厚度方向的滯后值(單位：nm)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補償薄膜，其特征在于，由含水率為1.0％以下的聚合物組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補償薄膜，其特征在于，由具有正的固有雙折射的樹脂和具有負(fù)的固有雙折射的樹脂混合而成，或者由它們的積層體組成。
4.一種光學(xué)補償薄膜的制造方法，其特征在于，包括拉伸薄膜的長度方向及寬度方向中的任意一個方向的拉伸工序和使另一個方向收縮的收縮工序。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)補償薄膜的制造方法，其特征在于，收縮工序是由拉幅器夾具來把持、運送薄膜，通過收窄該拉幅器夾具的運送方向的間隔而使其收縮的工序，拉伸工序是在與此大致正交的方向拉伸該薄膜的工序。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)補償薄膜的制造方法，其特征在于，在把拉伸工序中的拉伸率設(shè)為X％，把收縮工序中的收縮率設(shè)為Y％時，滿足下列數(shù)學(xué)式(Z)：
【算式1】
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)補償薄膜的制造方法，其特征在于，拉伸前的光學(xué)補償薄膜滿足下列數(shù)學(xué)式(5)～(6)：
-20≤Reb(550)≤20···········數(shù)學(xué)式(5)
-20≤Rthb(550)≤20··········數(shù)學(xué)式(6)
在上述數(shù)學(xué)式(5)～(6)中，Reb(550)是用波長550nm的光測量到的拉伸前的光學(xué)補償薄膜的面內(nèi)滯后值(單位：nm)，Rthb(550)是用550nm的光測量到的拉伸前的光學(xué)補償薄膜的厚度方向滯后值(單位：nm)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補償薄膜，其特征在于，采用權(quán)利要求4所述的光學(xué)補償薄膜的制造方法制成。
9.一種偏振光板的制造方法，其特征在于，包括把權(quán)利要求8所述的長形狀的光學(xué)補償薄膜與起偏器按卷對卷進(jìn)行粘合的工序。
10.一種偏振光板，其特征在于，采用權(quán)利要求9所述的偏振光板的制造方法制成。
11.一種液晶顯示裝置，其特征在于，具有采用包括進(jìn)行粘合的工序在內(nèi)的工序所制造的偏振光板、液晶單元、和具備滿足下列數(shù)學(xué)式(7-1)及數(shù)學(xué)式(7-2)的光學(xué)各向異性層的偏振光板：
-10＜Re(550)＜10········數(shù)學(xué)式(7-1)
100＜|Rth(550)|＜300·······數(shù)學(xué)式(7-2)，
上述進(jìn)行粘合的工序是把采用包括拉伸薄膜的長度方向及寬度方向中的任意一個方向的拉伸工序和使另一個方向收縮的收縮工序在內(nèi)的制造方法所制造的滿足上述數(shù)學(xué)式(1)～(4)的長形狀的光學(xué)補償薄膜與起偏器按卷對卷進(jìn)行粘合的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液晶顯示裝置，其特征在于，液晶單元為VA方式。
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