[發明專利]一種在曲面金屬表面制備圖文的方法無效
| 申請號: | 200710161062.0 | 申請日: | 2007-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN101470342A | 公開(公告)日: | 2009-07-01 |
| 發明(設計)人: | 趙萬里;陳云;陳梁 | 申請(專利權)人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;G03F1/14;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產權代理有限公司 | 代理人: | 王鳳桐;程榮逵 |
| 地址: | 518119廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 曲面 金屬表面 制備 圖文 方法 | ||
技術領域
本發明是關于一種表面裝飾方法,尤其是關于一種在曲面金屬表面制備圖文的方法。
背景技術
現有在曲面金屬表面制備圖文的方法主要分為兩大類:一種是用印刷的方法將圖文轉印到表面,例如水轉印、熱轉印、移印等,其優點是色彩豐富,外觀漂亮;缺點是其耐磨性、手感性較差且使用時間短。另一種是直接在金屬表面制備圖文,如金屬成型和沖壓成型等。金屬成型的方法是在模具表面先制備圖文,再直接將圖文與金屬外形一起成型出來。采用這種制備圖文的方法,制備成本高,制備的圖文精度低且圖案單一。沖壓成型的方法是先在平面的金屬表面形成圖文,然后在模具中沖壓成型。采用這種制備圖文的方法,由于圖文在沖壓過程中,圖文發生變形,導致制備的圖文的精度不夠高。例如,CN01127541公開了一種金屬蝕刻裝飾板的制備方法,其特征在于首先設計裝飾圖案或美術畫,然后制版,再在金屬板表面上感光成像,烘干后進行化學腐蝕,待腐蝕到一定深度后,清洗、烘干、上色、打磨未腐蝕的表面,最后涂防腐層。其中所述感光成像是采用絲網印刷成像,或采用電腦雕刻機不干膠紙露版成像,金屬板表面涂蠟后,蠟刻成像,或采用金屬板表面貼不干膠后,雕刻不干膠紙成像。在該專利中,對于是弧面、高低不平的彎曲面、幾個多邊形組合或90度的折變的金屬板裝飾板,在蝕刻后需要經機械或模具沖壓成型。
發明內容
本發明的目的是為了克服現有技術在曲面金屬表面制備的圖文精度低的缺陷,提供一種在曲面金屬表面制備的圖文精度高的圖文制備方法。
本發明提供一種在曲面金屬表面制備圖文的方法,其中,該方法包括將菲林與表面有感光油墨層的曲面金屬表面接觸,然后將感光油墨曝光、顯影,所述菲林為形狀與曲面金屬表面的形狀相適應的曲面菲林。
本發明提供的在曲面金屬表面制備圖文的方法,采用形狀與曲面金屬表面相適應的曲面菲林,再經過曝光和顯影,在曲面金屬表面形成由曝光的油墨組成的圖文。由于本發明制備的圖文是直接在曲面金屬表面形成,沒有經過先在平面的表面形成圖案再經過沖壓成型的過程,因此形成的圖文沒有發生變形,這樣制備的圖文比較精確;在本發明中,優選采用曲面曝光機進行曝光,使曲面上各點照射的光強一致,這樣使圖案的邊界部分都能清晰地顯影出來,從而得到更精確的所需要的圖文。在本發明中,還通過拉絲、蝕刻噴砂、上色或鍍金屬等技術在顯影后改變感光油墨覆蓋或露出金屬的表面的顏色和/或粗糙度以突現所需圖文,這樣的圖文耐磨性高。
本發明提供的方法制備表面具有圖文的曲面金屬制品的成本低廉;而且易于制備不同的圖文,能實現大規模生產。
具體實施方式
一種在曲面金屬表面制備圖文的方法,其中,該方法包括將菲林與表面有感光油墨層的曲面金屬表面接觸,然后將感光油墨曝光、顯影,所述菲林為形狀與曲面金屬表面的形狀相適應的曲面菲林。
根據本發明提供的方法,所述曲面菲林由透明部分和不透明部分組成,透明部分或不透明部分所形成的圖文相應于曲面金屬表面所需要的圖文。所述曲面菲林可以通過商購得到,也可以根據現有技術制備得到。曲面菲林的制備過程如下:先在塑性透明的平面基料上印刷出用三維制圖軟件先進行仿真設計的圖案,接著通過有定位的模具在熱壓或高壓沖模機上將基料做成與曲面金屬表面相吻合的形狀。這樣制備的曲面菲林厚度一般0.1-0.17微米。也可以制備厚度為0.01-0.015微米的平面菲林,將該菲林直接貼合到曲面金屬表面,優選將該菲林直接貼合到與曲面金屬表面相吻合的治具的內表面,使這種薄的菲林能重復利用。所述治具可以按照常規方法制備,如采用數控機床制備治具,制備治具的材料為常規材料,如有機玻璃、聚對苯二甲酸類塑料(PET)、聚碳酸酯(PC)等透明塑料材料。
在本發明中,所述曲面菲林的透明部分由基材組成,不透明部分包括基材和位于基材上的圖文。所述基材一般為塑性透明的材料,例如有機玻璃、聚對苯二甲酸類塑料(PET)、聚碳酸酯(PC)等中的一種或幾種。所述“透明材料”是指透光度大于80%的材料;所述“塑性材料”是指具有良好的延伸率,如延伸率大于5%的材料。
所述感光油墨層的厚度可以為20-200微米。所述曝光的方法可以為紫外光照射曝光法。采用該方法時所述曝光的條件根據感光油墨層的厚度確定,在本發明鐘,所述曝光的條件優選包括波長為0.35-0.45納米的紫外光,時間為5-60秒,強度為80-120毫焦/厘米2。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





