[發明專利]微結構體及其制備方法

無效

• 申請號: 200710160897.4
• 申請日: 2007-12-27
• 公開（公告）號: CN101275264A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 畠中優介;堀田吉則
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04;B01D71/02
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 柳春琦

1.一種制備微結構體的方法，其中將鋁襯底表面至少依次進行如下處理：

(A)用于陽極化所述鋁襯底表面以形成帶有微孔的陽極化膜的陽極化處理；和

(B)將在陽極化處理(A)中形成的陽極化膜在至少50℃的溫度加熱至少10分鐘的加熱處理，

從而得到在所述陽極化膜的表面帶有微孔的微結構體。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其中將在陽極化處理(A)中得到的陽極化膜在進行加熱處理(B)之前進一步依次進行如下處理：

(C)用于從在陽極化處理(A)中得到的陽極化膜中除去鋁的鋁除去處理；和

(D)貫通微孔形成處理，以使微孔延伸通過在陽極化處理(A)中得到的陽極化膜，

從而所得到的微結構體具有延伸通過陽極化膜的微孔。

3.一種由根據權利要求1或2所述的制備方法得到的微結構體。

4.一種微結構體，其包含帶有微孔的鋁陽極化膜，其中所述陽極化膜的硫原子濃度最高為3.2重量％，碳原子濃度最高為2.5重量％和磷原子濃度最高為1.0重量％。

5.根據權利要求4所述的微結構體，其包含貫通微孔。

6.根據權利要求3至5中任何一項所述的微結構體，其中所述的微孔的孔徑方差在平均直徑的3％以內。

7.根據權利要求3至6中任何一項所述的微結構體，其中所述微孔如由下式(1)定義的有序度至少為50％：

有序度(％)＝B/A×100????(1)

(其中，A表示在測量區域中的微孔的總數；和B表示：在繪制圓使得該圓的圓心位于特定微孔的重心且使得所述圓具有與另一個微孔的邊緣相內切的最小半徑時，所述圓包括除了所述特定微孔以外的六個微孔的重心的情況下，在測量區域中的特定微孔的數目)。

8.一種使用根據權利要求3至7中任何一項所述的微結構體的多孔氧化鋁膜過濾器。