[發(fā)明專利]一種鋁合金表面處理方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200710156874.6 | 申請日: | 2007-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN101161857A | 公開(公告)日: | 2008-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 杜平凡;徐敏;席珍強;姚劍 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C16/34 | 分類號: | C23C16/34;C23C16/52;C23C16/02 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 林懷禹 |
| 地址: | 310018浙江省杭州市江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鋁合金 表面 處理 方法 | ||
1.一種鋁合金表面處理方法,其特征在于:先對鋁合金表面拋光,清洗,然后采用有機溶劑,酒精超聲清洗后,在普通鋁合金基底上采用PECVD法沉積一層氮化硅薄膜,沉積過程采用的參數(shù),溫度為100~500℃,射頻功率為20~150W,沉積時間為5~60min,SiH4/NH3流量比為4∶1~1∶30。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋁合金表面處理方法,其特征在于:所沉積氮化硅薄膜厚度隨沉積參數(shù)的變化而變化,從而在鋁合金表面顯示出不同的顏色。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





