[發(fā)明專利]低輪廓背腔圓環(huán)形縫隙一點(diǎn)短路圓極化天線

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200710156688.2
• 申請(qǐng)日: 2007-11-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101170213A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅國(guó)清;孫玲玲
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州電子科技大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): H01Q1/38
• 分類(lèi)號(hào): H01Q1/38;H01Q13/10;H01Q13/06
• 代理公司: 杭州求是專利事務(wù)所有限公司
• 代理人: 張法高

1.低輪廓背腔圓環(huán)形縫隙一點(diǎn)短路圓極化天線，包括介質(zhì)基片，其特征在于：介質(zhì)基片的兩面鍍有金屬層，分別是上金屬層和下金屬層，其中下金屬層作為地層；上金屬層蝕刻有用于饋電的微帶線和共面波導(dǎo)傳輸線，共面波導(dǎo)傳輸線是共地共面波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其中間金屬條帶向外延伸，作為微帶線；貫穿上金屬層、介質(zhì)基片和下金屬層開(kāi)有通孔，通孔內(nèi)壁鍍有金屬，形成金屬化通孔；多個(gè)金屬化通孔順序排列為圓形，形成圓形的基片集成波導(dǎo)腔體，構(gòu)成圓形基片集成波導(dǎo)腔體的相鄰金屬化通孔的孔間距相同；共面波導(dǎo)傳輸線伸入基片集成波導(dǎo)腔體內(nèi)，基片集成波導(dǎo)腔體的圓心位于共面波導(dǎo)傳輸線的金屬條帶的中心線上；下金屬層在基片集成波導(dǎo)腔體的區(qū)域內(nèi)蝕刻具有一點(diǎn)短路的圓環(huán)形輻射縫隙，輻射縫隙與基片集成波導(dǎo)腔體同心設(shè)置，短路點(diǎn)的中心和輻射縫隙的圓心的連線與饋電結(jié)構(gòu)中金屬條帶的中心線垂直。

2.如權(quán)利要求1所述的低輪廓背腔圓環(huán)形縫隙一點(diǎn)短路圓極化天線，其特征在于所述的金屬化通孔的直徑小于天線工作的中心頻率所對(duì)應(yīng)空氣波長(zhǎng)的十分之一，金屬化通孔的直徑和相鄰兩個(gè)金屬化通孔的孔心距的比值大于0.5。