[發明專利]柔性銅銦鎵硒薄膜太陽電池及其吸收層的制備方法有效
| 申請號: | 200710151040.6 | 申請日: | 2007-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN101459200A | 公開(公告)日: | 2009-06-17 |
| 發明(設計)人: | 方小紅 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十八研究所 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042;H01L31/045;H01L31/02;H01L31/18 |
| 代理公司: | 天津市鼎和專利商標代理有限公司 | 代理人: | 李 鳳 |
| 地址: | 300381天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 銅銦鎵硒 薄膜 太陽電池 及其 吸收 制備 方法 | ||
1.柔性銅銦鎵硒薄膜太陽電池吸收層的制備方法,其特征在于:在柔性金屬或聚酰亞胺膜的襯底上,磁控濺射沉積0.5-1.5μm厚的底電極Mo,再在底電極Mo上用CuIn和CuGa合金靶材以磁控濺射法制備厚度為0.6-1.2μm的金屬預制層;將沉積有底電極Mo和銅銦鎵金屬預制層的基片置于石英管中,同時在管中置入0.5-5g的固態硒源,真空密封,放入可分段程序控溫的管式爐中,基片所在區域溫度控制在400-590℃,固態硒源所在區域溫度控制在180-300℃,進行10-30min的硒化處理,使金屬預制層完全轉變為CuIn1-XGaXSe2化合物半導體薄膜。
2.柔性銅銦鎵硒薄膜太陽電池的吸收層制備方法,其特征在于:在柔性金屬或聚酰亞胺膜的襯底上,磁控濺射沉積0.5-1.5μm厚的底電極Mo,再在底電極Mo上用CuIn和CuGa合金靶材以磁控濺射法制備厚度為0.6-1.2μm的金屬預制層;將沉積有底電極Mo和銅銦鎵金屬預制層的基片置于石英管中,同時在管中置入0.5-5g的固態硒源,真空密封,放入可分段程序控溫的管式爐中,基片所在區域溫度控制在400-590℃,固態硒源所在區域溫度控制在180-300℃,進行10-30min的硒化處理,使金屬預制層完全轉變為CuIn1-XGaXSe2化合物半導體薄膜,再用硫源代替硒源,進行硫化過程,最終形成CuIn1-XGaXSe2-XS2化合物半導體薄膜。
3.根據權利要求1或2所述的柔性銅銦鎵硒薄膜太陽電池吸收層的制備方法,其特征在于:所述襯底厚度為10-100μm;柔性金屬材料為鈦箔、不銹鋼箔、鉬箔或鋁箔。
4.根據權利要求1或2所述的柔性銅銦鎵硒薄膜太陽電池吸收層的制備方法,其特征在于:所述襯底上的底電極Mo為雙層膜。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





