[發明專利]電光晶體布拉格折射器及以其作為激光Q調制器的方法

無效

• 申請號: 200710148022.2
• 申請日: 2007-08-29
• 公開（公告）號: CN101377601A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 蔣安忠;林碩泰;黃衍介;林彥穎;張癸伍
• 申請（專利權）人: 黃衍介
• 主分類號: G02F1/355
• 分類號: G02F1/355;G02F1/377;G02F1/35
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司
• 代理人: 許志勇;霍育棟

1、一種電光晶體布拉格折射器，包含:

一周期性極化反轉電光晶體；

一電極；以及

一驅動器。

2、如權利要求1所述的布拉格折射器，其中該電光晶體為一單晶周期極化反轉的鐵電物質，選自一鈮酸鋰、一鉭酸鋰、一碘酸鋰、一鈮酸鉀、一磷酸氧鈦鉀、一砷酸氧鈦銣、一偏硼酸鋇與一磷酸氧鈦銣其中的任一。

3、如權利要求1所述的布拉格折射器，其中該電極為一導電材料，其中該導電材料為一濺鍍金屬薄膜或一金屬箔。

4、如權利要求1所述的布拉格折射器，其中該驅動器可提供一特定電場于該電光晶體，以使該電光晶體的一折射率產生一周期性的增加或一周期性的減少，且該折射率具有一方形分布，其中該驅動器為一直流電源供應器或一信號產生器，其中該特定電場可為一直流電場或一交流電場。

5、一種主動式Q調制激光系統，包含:一泵浦源，一激光共振腔，一激光增益介質，一激光Q調制器，其中激光Q調制器包括一周期性極化反轉電光晶體，其中該電光晶體，是于一第一狀態時，施加一特定電場于該電光晶體，且產生一布拉格繞射而使該共振腔處于一高損失狀態，并累積復數個載子于該激光增益介質中，當該第二狀態時，關斷該特定電場，致該共振腔處于一低損失狀態，且使該激光增益介質釋放復數個光子，以達成一激光Q調制。

6、如權利要求5所述的激光系統，更包括一激光光，其中該電光晶體更包括一第一表面、一第二表面及一切面，該切面與該第一和該第二表面之間皆具有一45度夾角，且該切面用于提供該激光光的一全反射，以使該激光光經歷一非線性光頻轉換。

7、如權利要求5所述的激光系統，更包括一激光光、一第一與一第二高反射鏡及一聚焦透鏡，其中當該激光光經過該電光晶體產生一Q調變而射出該共振腔后，利用該第一與該第二高反射鏡將該激光光再導入該電光晶體，途中透過該聚焦透鏡以提高該激光光的一強度，以進行一非線性光頻轉換。

8、一種用于一主動式Q調制激光系統的控制方法，其中

該激光系統包括一激光共振腔，用于接收一激光光，及一周期性極化反轉電光晶體，設置于該共振腔內，該方法包含下列的步驟:

(a)施加一特定電場于該電光晶體，以產生一周期性的折射率變化；

(b)使用該具有折射率變化的電光晶體作為一布拉格折射鏡；以及

(c)藉由該布拉格折射鏡反射該激光光，使得該激光共振腔切換于一低損失狀態與一高損失狀態間，以達成一激光Q調制。

9、如權利要求8所述的控制方法，其中該激光系統更包括一激光增益介質，且該步驟(a)更包括一步驟:

(a1)該周期性的折射率變化，使得該電光晶體的一折射率產生一周期性的增加或一周期性的減少，且該折射率具有一方形分布。

10、如權利要求8所述的控制方法，其中該激光系統更包括一激光增益介質，且該步驟(c)更包括下列的步驟:

(c1)當一第一狀態時，施加該特定電場于該布拉格折射器，且產生一布拉格繞射，而使該共振腔處于一高損失狀態，并累積復數個載子于該激光增益介質中；以及

(c2)當該第二狀態時，未施加該特定電場于該布拉格折射鏡，而使該共振腔處于一低損失狀態，且使該激光增益介質釋放復數個光子，以達成該激光Q調制。