[發(fā)明專利]變換光鉗夾的裝置與方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200710145787.0
• 申請日: 2007-09-05
• 公開（公告）號: CN101383197A
• 公開（公告）日: 2009-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐瑯;劉承賢;曾勝陽;周忠誠;王威;吳豐旭;彭震;李大元
• 申請（專利權(quán)）人: 佳世達(dá)科技股份有限公司
• 主分類號: G21K1/00
• 分類號: G21K1/00;G01N15/00;G01N37/00;G02B5/30;G02B27/42
• 代理公司: 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 章社杲;李丙林

1.一種形成光鉗夾的裝置，包括：

衍射光學(xué)元件，包括多個相位延遲圖形；

掩模單元，包括對應(yīng)于所述相位延遲圖形的多個掩模圖 形，從各所述相位延遲圖形穿過的激光對應(yīng)穿過各所述掩模圖 形后以形成合成衍射圖形，其中所述掩模圖形為至少部份互 補；以及

物鏡，接收所述合成衍射圖形并在檢測試件上聚焦形成 所述合成衍射圖形的光鉗夾。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述相位延遲圖形包括：

第一相位延遲圖形，激光穿透所述第一相位延遲圖形形 成第一衍射圖形；以及

第二相位延遲圖形，激光穿透所述第二相位延遲圖形形 成不同于所述第一衍射圖形的第二衍射圖形。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，所述掩模圖形包括：

第一掩模圖形，對應(yīng)所述第一相位延遲圖形；以及

第二掩模圖形，對應(yīng)所述第二相位延遲圖形，所述第一 掩模圖形與所述第二掩模圖形相加后的掩模穿透率基本上等 于0；

其中，激光穿透所述第一相位延遲圖形與所述第二相位 延遲圖形，并分別對應(yīng)穿透所述第一掩模圖形與所述第二掩模 圖形后，合成所述合成衍射圖形。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，當(dāng)所述合成衍射圖形再經(jīng) 過另一第一掩模圖形后，產(chǎn)生近似于所述第一衍射圖形的第三 衍射圖形，以變換所述光鉗夾的形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其中，當(dāng)所述合成衍射圖形再經(jīng) 過另一第二掩模圖形后，產(chǎn)生近似于所述第二衍射圖形的第四 衍射圖形，以變換所述光鉗夾的形狀。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述掩模單元包括多個掩模 元件，所述掩模圖形位于所述掩模元件上。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中各所述掩模元件為可程序化 掩模元件。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中各所述掩模元件的材質(zhì)包括 電致變色材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中至少一個掩模元件位于所述 物鏡的焦平面處。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中至少一個掩模元件位于所述 衍射光學(xué)元件的出光面處。

11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，還包括：

至少一個透鏡組，設(shè)置在所述衍射光學(xué)元件與所述物鏡 之間，至少一個掩模元件位于所述透鏡組的焦平面處。

12.一種形成光鉗夾的方法，包括：

(a)使激光穿透多個相位延遲圖形；

(b)使從各所述相位延遲圖形穿過的激光對應(yīng)穿過多個 掩模圖形后以形成合成衍射圖形，其中所述掩模圖形至少部份 互補；以及

(c)使所述合成衍射圖形聚焦于檢測試件上并形成光鉗 夾。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述步驟(a)包括：

(a1)使激光穿透所述相位延遲圖形的第一相位延遲圖形 以形成第一衍射圖形；以及

(a2)使激光穿透所述相位延遲圖形的第二相位延遲圖形 以形成不同于所述第一衍射圖形的第二衍射圖形。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述步驟(b)包括：

(b1)使激光穿透所述第一相位延遲圖形與所述第二相 位延遲圖形，并分別對應(yīng)穿透所述掩模圖形的第一掩模圖形與 第二掩模圖形后以合成所述合成衍射圖形，所述第一掩模圖形 與所述第二掩模圖形相加后的掩模穿透率基本上等于0。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，在步驟(b)與步驟(c)之間 還包括步驟：

(d)使所述合成衍射圖形再經(jīng)過另一第一掩模圖形，以 產(chǎn)生近似于所述第一衍射圖形的第三衍射圖形，由此以變換所 述光鉗夾的形狀。