[發(fā)明專利]顯影輥以及使用顯影輥的顯影裝置和圖像形成裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200710145223.7 | 申請(qǐng)日: | 2007-08-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101165607A | 公開(公告)日: | 2008-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 松本卓士 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士施樂株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03G15/08 | 分類號(hào): | G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 顧紅霞;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯影 以及 使用 裝置 圖像 形成 | ||
1.一種顯影輥,包括:
(I)顯影套筒,其由非磁性材料制成,用于保持并傳送包含調(diào)色劑和磁載體的顯影劑;以及
(II)磁性部件,其固定在所述顯影套筒的內(nèi)部,
其中,所述磁性部件包括:
(i)顯影磁極,其與被施加所述顯影劑的顯影區(qū)域相對(duì)應(yīng);
(ii)顯影前磁極,其相對(duì)于所述顯影磁極設(shè)置在顯影劑傳送方向的上游側(cè),并且具有與所述顯影磁極不同的極性;以及
(iii)顯影后磁極,其相對(duì)于所述顯影磁極設(shè)置在所述顯影劑傳送方向的下游側(cè),并且具有與所述顯影磁極不同的極性,
其中,θ1、θ2和θ3滿足下式:
θ1>90°;并且
θ1+θ2>θ3,
其中,θ1表示所述顯影磁極和所述顯影前磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角,
θ2表示所述顯影前磁極和所述顯影后磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角,
θ3表示所述顯影磁極和所述顯影后磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
所述磁性部件將所述顯影前磁極和所述顯影后磁極之間形成的排斥磁場(chǎng)的法線方向上的磁通量密度抑制為約5mT或者更小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
θ1>θ2。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
θ1>θ3。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
θ2>θ3。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
θ1>θ2>θ3。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
所述顯影磁極的法線方向上的磁通量密度的峰值在所述顯影磁極、所述顯影前磁極和所述顯影后磁極的法線方向上的磁通量密度的峰值中是最大的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影輥,其中,
所述顯影磁極的寬度在所述顯影磁極、所述顯影前磁極和所述顯影后磁極的寬度中是最大的。
9.一種顯影裝置,包括:
(a)顯影容器,其容納包含調(diào)色劑和磁載體的顯影劑;以及
(b)顯影輥,其設(shè)置在所述顯影容器中,
其中,所述顯影輥包括:
(I)顯影套筒,其由非磁性材料制成,用于保持并傳送所述顯影劑;以及
(II)磁性部件,其固定在所述顯影套筒的內(nèi)部,
其中,所述磁性部件包括:
(i)顯影磁極,其與被施加所述顯影劑的顯影區(qū)域相對(duì)應(yīng);
(ii)顯影前磁極,其相對(duì)于所述顯影磁極設(shè)置在顯影劑傳送方向的上游側(cè),并且具有與所述顯影磁極不同的極性;以及
(iii)顯影后磁極,其相對(duì)于所述顯影磁極設(shè)置在所述顯影劑傳送方向的下游側(cè),并且具有與所述顯影磁極不同的極性,
其中,θ1、θ2和θ3滿足下式:
θ1>90°;并且
θ1+θ2>θ3,
其中,θ1表示所述顯影磁極和所述顯影前磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角,
θ2表示所述顯影前磁極和所述顯影后磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角,
θ3表示所述顯影磁極和所述顯影后磁極的在所述顯影套筒的外周面的法線方向上的磁通量密度的峰值位置之間的張開角。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士施樂株式會(huì)社,未經(jīng)富士施樂株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200710145223.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





