[發明專利]有機金屬化合物

有效

• 申請號: 200710141351.4
• 申請日: 2007-07-31
• 公開（公告）號: CN101121733A
• 公開（公告）日: 2008-02-13
• 發明（設計）人: D·V·舍奈－卡特克哈特;Q·M·王
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: C07F19/00
• 分類號: C07F19/00;C07F9/50;C23C16/18
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 沙永生

1.一種有機金屬化合物，具有以下化學式：

(EDG(CR¹R²)_y’-CR³＝CR⁴-(CR⁵R⁶)_y”)_nM^+mL¹_(m-n)L²_p，式中，R¹和R²各自獨立地選自H、(C₁-C₆)烷基和EDG；R³＝H、(C₁-C₆)烷基、EDG或EDG-(CR¹R²)_y’；R⁴＝H或(C₁-C₆)烷基；R⁵和R⁶各自獨立地選自H和(C₁-C₆)烷基；EDG是給電子基團；M＝金屬；L¹＝陰離子型配體；L²是中性配體；y’＝0-6；y”＝0-6；m＝M的價數；n＝1-7；和p＝0-3。

2.如權利要求1所述的化合物，其特征在于，L¹選自氫負離子、鹵素負離子、疊氮根、烷基、烯基、炔基、羰基、二烷基氨基烷基、亞氨基、酰肼基、磷基、亞硝酰基、硝酰基、硝酸根、腈、烷氧基、二烷基氨基烷氧基、甲硅烷氧基、二酮酸根、酮亞胺根、環戊二烯基、甲硅烷基、吡唑根、胍根、膦胍根、脒根、膦脒根、氨基、烷基氨基、二烷基氨基和烷氧基烷基二烷基氨基。

3.如權利要求1所述的化合物，其特征在于，EDG包含氧、磷、硫、氮、烯、炔和芳基中的一個或多個。

4.如權利要求1所述的化合物，其特征在于，M選自第2族到第16族的金屬。

5.一種沉積薄膜的方法，該方法包括以下步驟：在氣相沉積反應器中提供基板；將如權利要求1所述的有機金屬化合物作為前體以氣態形式輸送至所述反應器；以及在所述基板上沉積包含所述金屬的薄膜。

6.一種組合物，包含如權利要求1所述的化合物和有機溶劑。

7.一種沉積薄膜的方法，該方法包括以下步驟：在反應器中提供基板；采用直接液體注射將如權利要求6所述的組合物輸送到所述反應器中；以及在基板上沉積包含所述金屬的薄膜。

8.一種沉積薄膜的方法，該方法包括以下步驟：在氣相沉積反應器中提供基板；將權利要求1所述的有機金屬化合物作為第一前體以氣態形式輸送至所述反應器；將所述第一前體化合物化學吸附在所述基材的表面上；從所述反應器中除去任何未化學吸附的第一前體化合物；將第二前體以氣態形式輸送至所述反應器；使所述第一前體與第二前體反應，在所述基板上形成薄膜；除去任何未反應的第二前體。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述第二前體選自氧氣、臭氧、水、過氧化物、醇類、一氧化二氮和氨。

10.一種輸送裝置，用來將前體以蒸氣相輸送到包含權利要求1所述的化合物的氣相沉積反應中。