[發明專利]壓電/電致伸縮元件的制造方法

無效

• 申請號: 200710140250.5
• 申請日: 2007-08-07
• 公開（公告）號: CN101290966A
• 公開（公告）日: 2008-10-22
• 發明（設計）人: 大西孝生;谷信;和田敬;小泉貴昭
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社
• 主分類號: H01L41/22
• 分類號: H01L41/22
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司
• 代理人: 鐘晶

1.壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，所述壓電/電致伸縮元件具有層疊結構，包括含有堿金屬或堿土金屬的膜狀壓電/電致伸縮體和夾持該壓電/電致伸縮體的一對膜狀電極，

該壓電/電致伸縮元件的制造方法具有燒成所述壓電/電致伸縮體的工序A1，以及用酸性液體或純水清洗所述含有壓電/電致伸縮體的所述壓電/電致伸縮元件的工序B1，并且在所述工序A1后，進行至少一次所述工序B1，

所述工序B1的清洗是由所述酸性液體或純水對所述壓電/電致伸縮體的表面的附著、干燥以及吹氣構成。

2.根據權利要求1記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，在所述工序A1后且在所述工序B1之前，具有進行所述壓電/電致伸縮元件的加熱處理的工序C1。

3.根據權利要求2記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，所述工序C1的加熱處理的條件為，溫度在60℃以上且在900℃以下。

4.根據權利要求1～3中的任一項記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，在所述工序B1的清洗中，將所述酸性液體或純水制成薄霧狀來使用。

5.根據權利要求1～3中的任一項記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有堿金屬或堿土金屬元素的化合物去除掉。

6.根據權利要求4記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有堿金屬或堿土金屬元素的化合物去除掉。

7.根據權利要求5記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，所述化合物為氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種。

8.根據權利要求6記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，所述化合物為氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種。

9.根據權利要求1～3中的任一項記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。

10.根據權利要求4記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。

11.根據權利要求5記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。

12.根據權利要求6記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。

13.根據權利要求7記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。

14.根據權利要求8記載的壓電/電致伸縮元件的制造方法，其特征在于，通過所述工序B1的清洗，將附著在所述壓電/電致伸縮元件表面上的含有所述膜狀電極的成分的鈉鹽、硫酸鹽、硫化物中的至少任一種去除掉。