[發明專利]零級衍射濾光器

無效

• 申請號: 200710139898.0
• 申請日: 2007-07-27
• 公開（公告）號: CN101135780A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 哈拉爾德·瓦爾特;伊爾貝特·古格勒;亞歷山大·斯塔克;羅伯特·貝爾;馬克·波沙爾
• 申請（專利權）人: CSEM瑞士電子和微技術中心股份有限公司
• 主分類號: G02B27/44
• 分類號: G02B27/44;G03F7/00;G06K19/16
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 王玉雙

1.一種零級衍射濾光器，其包含具有周期性衍射微結構以形成波導的第一層，和至少一個相鄰的第二層，其中所述第一層的折射率比所述第二層的折射率高至少0.2，且至少一個所述第二層是包含納米孔隙的多孔層，其中至少一個所述多孔層包含由聚集的納米粒子構成的納米孔隙，所述納米孔隙由所述聚集的納米粒子之間的縫隙形成，且其中該衍射微結構的周期Λ為100納米至3000納米，優選300納米至2200納米，更優選300納米至1700納米。

2.根據權利要求1所述的零級衍射濾光器，其中所述第一層由含有納米粒子的聚合物基體構成，所述納米粒子的折射率高于所述聚合物基體的折射率。

3.根據權利要求1或2所述的零級衍射濾光器，其中包含所述納米孔隙的至少一個所述多孔層由泡沫構成。

4.根據權利要求1或2所述的零級衍射濾光器，其中所述納米粒子是無機納米粒子。

5.根據前述權利要求中任一項所述的零級衍射濾光器，其中至少一個所述多孔層具有小于1.35的折射率。

6.根據前述權利要求中任一項所述的零級衍射濾光器，其中所述第一層與襯底相鄰。

7.根據權利要求1～5中任一項所述的零級衍射濾光器，其中所述第二層與襯底相鄰。

8.根據權利要求6所述的零級衍射濾光器，其中所述襯底包含周期性衍射微結構。

9.根據權利要求6或7所述的零級衍射濾光器，其中所述襯底可去除。

10.根據前述權利要求中任一項所述的零級衍射濾光器，包含覆蓋層。

11.一種制造根據權利要求1～5，7，9和10中任一項所述的零級衍射濾光器的方法，包括以下步驟：

-優選通過水基涂布技術，在撓性襯底上沉積具有折射率為n₂的多孔層；

-優選通過水基涂布技術，在所述多孔層上沉積折射率為n₁的聚合物層，其中n₁＞n₂+0.2；和

-優選通過壓印，在所述聚合物層中形成零級衍射微結構。

12.根據權利要求11所述的方法，其中隨后優選通過水基涂布技術，在所述聚合物層上沉積折射率為n₄的附加覆蓋層，其中，n₄＜n₁-0.2。

13.一種制造根據權利要求1～6和8～10中任一項所述的零級衍射濾光器的方法，包括以下步驟：

-優選通過水基涂布技術，將具有折射率為n₁的聚合物層沉積在折射率n₃＜n₁-0.2的襯底上；

-優選通過壓印，在所述聚合物層中形成零級衍射微結構；

-優選通過水基涂布技術，在所述聚合物層上沉積折射率為n₄的附加多孔覆蓋層，其中n₄＜n₁-0.2。

14.一種制造根據權利要求1～6和8～10中任一項所述的零級衍射濾光器的方法，包括以下步驟：

-在具有折射率n₃的撓性襯底中形成零級衍射微結構；

-優選通過水基涂布技術，在所述襯底上沉積折射率為n₁的聚合物層，其中n₁＞n₃+0.2；

-優選通過水基涂布技術，在所述聚合物層上沉積折射率為n₄的附加多孔覆蓋層，其中n₄＜n₁-0.2。

15.根據權利要求11～14中任一項所述的方法，其中多孔層和/或多孔覆蓋層具有小于1.35的折射率。

16.根據權利要求11～15中任一項所述的方法，其中所有沉積步驟是卷對卷法的一部分。

17.通過根據權利要求11～16中任一項所述的方法獲得的零級衍射濾光器。

18.根據權利要求1～10和17中任一項所述的零級衍射濾光器用于制造加密裝置的用途，特別是與銀行票據、信用卡、護照、票證一起使用和用于品牌保護目的的用途。

19.無機納米粒子在根據權利要求1～10和17中任一項所述的零級衍射濾光器的制造中的用途。